微泰，大閘閥、大型閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:用于研發和工業的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規格如下：驅動方式：氣動、法蘭尺寸（內徑）：16? ~ 30?、 法蘭型：ISO、JIS、ASA 、饋通：Viton O-Rin、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：可調節、工作壓力范圍：1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護前可用次數：10,000 ~ 100,000次、開啟時壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環保科技有限公司。 閘板有剛性閘板和彈性閘板，根據閘板的不同，閘閥分為剛性閘閥和彈性閘閥。CVD閘閥HV GATE VALVE

微泰半導體閘閥的特點：閥門驅動部分的所有滾子和軸承都進行了防護處理，形成屏蔽和保護環（Shield Blocker 和 Protection Ring）用三重預防方式切斷粉末（Powder），延長閥門驅動和使用壽命。三重預防驅動方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內部，有三重保護驅動保護環，長久延長GV壽命的Shield方法-供應給海外半導體T公司、M公司和I公司Utility設備。擋板與閥體的距離小于1mm，阻擋內部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料，考慮了復原力，并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護保護環的主要功能說明-AL材料的重量減輕和保護環內部照明的改善-保護環內部流速的增加-三元環應用確保驅動性能。PVD閘閥氣動閥真空閘閥對于隔離不同的真空室、控制工藝過程中的氣流以及在不影響真空環境的情況下促進維護或維修很重要。

微泰，多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。微泰多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥其特點是?操作模式：本地和遠程?緊急情況：自動關閉?慢速泵送功能。多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥規格如下：材料：閥體 STS304， 機制 STS304、法蘭尺寸(內徑) 4英寸~10英寸、閘門密封 FKM(VITON)、開/關振動 無振動、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門壓差 ≤1.4 bar、分子流動電導（ISO100）1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置：任意。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環保科技有限公司。

微泰半導體閘閥的特點：插板閥主滑閥的球機構方式-在量產工藝設備上的性能驗證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷和金屬觸摸驅動無顆粒-已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備，設備廠批量供貨，已得到品質認可，已完成對半導體Utility設備和批量生產設備的驗證，而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅動產生大量顆粒。使用鋼陶瓷球，與金屬摩擦時不會損壞，金屬與陶瓷球之間不會產生Particle，半永久板簧（SUS鋼板）的應用確保閥門驅動同步性，采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司。這些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅動，從而可以根據具體應用進行多功能控制。

半導體主加工設備腔內精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰。控制系統閥門是安裝在半導體? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備中的主要閥門。控制系統閥門起到調節腔內壓力的作用，通過控制系統自動調節閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。CVD閘閥HV GATE VALVE

閘閥通過閥座和閘板接觸進行密封，通常密封面會堆焊金屬材料以增加耐磨性。CVD閘閥HV GATE VALVE

微泰半導體閘閥的特點：已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備，設備廠批量供貨，已得到品質認可，已完成對半導體Utility設備和批量生產設備的驗證。1，采用陶瓷球機構，抗沖擊和震動，保證使用25萬次，檢修方便，較低維護成本。2，無Particle（顆粒）產生，采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產。3，屏蔽保護：屏蔽式保護功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm，可防止粉末侵入閥內，壽命為半永久性。4，保護環：Protecrion Ring通過流速上升設計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司。CVD閘閥HV GATE VALVE