微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，三重防護閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。有-屏蔽閘閥：防止氣體和粉末進入閥內的隔離閥，-三重防護閘閥：屏蔽1和2+保護環的3重隔離系統，還有步進電機閘閥和鋁閘閥，屏蔽門閥：產品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次?響應時間：0.2秒~3秒；三級預防閘閥，三重防護閘閥：產品范圍：4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次?包括屏蔽功能；步進電機閘閥：產品范圍：2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次?包括屏蔽功能；步進電機閘閥；鋁閘閥：產品范圍：2.5~12英寸?高壓氣動?維護前可用次數：10萬次?響應時間：0.2秒~3秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環?？萍加邢薰?。閘閥體內設一個與介質流向成垂直方向的平面閘板，靠這一閘板的升降來開啟或關閉介質的通路。超大型真空閘閥Global Foundries

微泰半導體閘閥具有獨特的三重保護保護環機能：采用鋁質材料，減輕重量的同時提高保護環內部粗糙度，有效防止工程副產物的堆積黏附；通過提升保護環內部流速設計，且保護環逐步收窄，進一步提升流速，防止粉塵黏附；采用三元系 O 型圈，確保保護環驅動穩定，可保證 30 萬次驅動。該閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，能夠替代 HVA 閘閥、VAT 閘閥。此閘閥由上海安宇泰環?？萍加邢薰咎峁VD閘閥法蘭閘閥真空閘閥屬于真空隔離閥類別。但是，它也有可用于控制氣流。

微泰，三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應用于? 蒸發?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴散?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*3個位置功能-閥門打開,閥門關閉,第3位置*設備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來讀取閥門狀態*手動和氣動閥門組合*應用:需要壓力控制的任何其他過程*應用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規格如下：驅動方式：氣動、法蘭尺寸：2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績

微泰，屏蔽閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? 濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)? Coating（涂層）? Etch? Diffusion?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*閥體和阻斷器之間的間隙小于1mm*防止流入的氣體（粉末）進入閥體內部*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵，氣流中的高水平工藝。屏蔽閘閥規格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：2.5英寸~ 10英寸、法蘭類型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：2.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績精確控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統閘閥、蝶閥、多定位閘閥。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，蝶閥，Butterfly Valve產品范圍：DN40 ~ 50 -壓力控制-使用步進電機- Product Range : DN40 ~ 50- Pressure Controlled- Using Stepper Motor，- Compatible with VAT Butterfly Control Valve, series61.2 - Application Process : PVD, CVD, Etching, Diffusion-使用步進電機和控制器執行驅動。-通過步進電機/控制器精確定位，確保精確的壓力控制。-兼容VAT蝶閥控制器，系列61.2，-應用工藝： PVD，CVD，蝕刻，擴散。微泰蝶閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。用真空閘閥時，應考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環速度和維護要求等因素。PVD閘閥L型轉移閥

當真空閥打開時，閘門移出流路，使氣體以高電導率通過。超大型真空閘閥Global Foundries

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，氣動多位置閘閥，氣動多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position 其特點是1，全開和關閉位置使用帶有位置發射器的氣動電磁閥進行控制；2，所有位置控制都由控制器進行操作。1)控制類型-全開：高速閘門全開操作-全閉：高速閘門全閉操作-位置（POS.）控制：將閘門移動到設定的位置值；2)操作時間-完全打開?完全關閉：<2秒（取決于速度控制器設置)-位置（POS。）控制： 0%?100%工作，<MAX18秒（偏差： < ±0.5%）。微泰氣動多位置閘閥，氣動多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position，有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。超大型真空閘閥Global Foundries