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佛山圓形溫度傳感器

來源: 發布時間:2023-11-08

    需要在對應溫度傳感器引出端子處開設通孔,通過通孔可引出輸出端子。在本實施例中,是在外側多晶硅端部的金屬鋁上方的鈍化層開設通孔。鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層,也可為疊設的氧化硅層和氮化硅層。上述溫度傳感器制備方法,可以得到氧化硅薄膜,且氧化硅薄膜與硅通過空腔隔離,空腔下方的硅不會影響上方氧化硅薄膜的隔離效果,因此無需通過深槽刻蝕工藝將多余的硅刻蝕掉,簡化了制備過程。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經營范圍包括:一般經營項目是:電子產品及其配件的技術開發與銷售;國內貿易等。本公司主營推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國際有名品牌集成電路。產品廣泛應用于:汽車、通信、消費電子、工業控制、醫療器械、儀器儀表、安防監控等領域。節約制備時間,節省了制備成本。由于氧化硅薄膜導熱率低,將測溫單元制備在氧化硅薄膜上,具有較好的測溫效果,使溫度傳感器性能更加穩定。本發明還涉及一種溫度傳感器,包括:基底,基底包括硅片和在硅片上形成的氧化硅薄膜,硅片和氧化硅薄膜之間形成有空腔;和測溫單元,測溫單元形成于所述空腔上方的氧化硅薄膜上,所述測溫單元用于感測環境溫度。溫度傳感器哪家服務好?認準深圳市美信美科技有限公司。佛山圓形溫度傳感器

    本公司主營推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國際有名品牌集成電路。產品廣泛應用于:汽車、通信、消費電子、工業控制、醫療器械、儀器儀表、安防監控等領域。通過熱氧化工藝氧化空腔上部的硅片以形成氧化硅薄膜(如圖c所示)。在℃~℃的高溫環境中,通過外部供給氧氣或者水蒸氣使之與硅發生化學反應,可以在空腔上方得到一層熱生長的氧化層。由于當氧化層達到一定厚度時,氧化反應幾乎停止,因此當難以通過一次氧化工藝將空腔上方的硅全部氧化成氧化硅時,需要通過多次氧化步驟實現將空腔上方的硅全部氧化,具體為,進行次熱氧化生成一層氧化硅薄膜后,空腔上方為殘留的未氧化的硅以及在硅上生成的氧化硅薄膜,通過刻蝕工藝去除上方的氧化硅薄膜,保留空腔上方的硅,此時硅的厚度減小,繼續通過上述熱氧化、刻蝕和熱氧化的循環工藝逐漸減小空腔上方硅的厚度,直至后一次熱氧化后空腔上方的硅全部生成氧化硅薄膜,由此實現上層氧化硅薄膜與下層硅通過空腔隔離。此時,溫度傳感器的基作完成。在一實施例中,在得到上述氧化硅薄膜后還可在氧化硅薄膜上形成氮化硅薄膜或者聚酰亞胺薄膜,由于氧化硅內部存在較大的應力,氧化硅薄膜容易斷裂。佛山排氣溫度傳感器報價現貨商深圳市美信美科技有限公司,只做原裝進口溫度傳感器。

    深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經營范圍包括:一般經營項目是:電子產品及其配件的技術開發與銷售;國內貿易等。本公司主營推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國際有名品牌集成電路。產品廣泛應用于:汽車、通信、消費電子、工業控制、醫療器械、儀器儀表、安防監控等領域。本發明涉及溫度傳感器領域,特別是涉及一種溫度傳感器制備方法及溫度傳感器。背景技術:溫度傳感器包括測溫單元和承載該測溫單元的基底。溫度傳感器通常以導熱率低的材料做基底,如在二氧化硅上淀積測溫材料形成溫度傳感器。在工藝制程中,通過氧化硅片以在硅片表面生產一層二氧化硅,其中,二氧化硅的導熱率較低,但是硅的導熱率較高,為避免通過基底下部的硅導熱,通常還需通過深槽刻蝕的方式對氧化硅層背面的硅進行刻蝕,如通過氫氧化鉀的刻蝕液進行濕法刻蝕,也可用深反應離子刻蝕(deepreactiveionetching)工藝進行干法刻蝕。無論是濕法刻蝕還是干法刻蝕,其工藝時間都會較長且成本較高。技術實現要素:基于此,有必要針對傳統技術中溫度傳感器以二氧化硅為基底時獲取基底的工藝時間較長且成本較高的問題,提出了一種新的溫度傳感器制備方法。

    再在高溫環境下進行退火,由于高溫環境下硅原子會發生遷移,硅原子發生遷移后硅片內部的結構會發生改變,之前的若干溝槽會相互連通以在硅片內部形成一空腔結構。氧化空腔上部的硅片部分可以得到所需的氧化硅薄膜,然后在氧化硅薄膜上淀積測溫材料形成測溫單元,測溫單元用于感測環境溫度,從而得到溫度傳感器。通過本方案得到的溫度傳感器,其基底包含一空腔以及位于空腔上部的氧化硅薄膜和位于空腔下部的硅,即氧化硅薄膜和硅通過空腔隔開,基底下部的硅不會影響上部氧化硅的隔熱效果,因此無需通過刻蝕工藝將基底下部的硅刻蝕掉,從而縮短產品制備的時間,且節約了成本。在其中一個實施例中,所述溝槽的寬度范圍為μm~1μm,所述溝槽的深度范圍為1μm~10μm,所述相鄰溝槽之間的間隔范圍為μm~1μm。在其中一個實施例中,所述熱退火具體為在氫氣環境中熱退火,所述熱退火的溫度為1000℃。在其中一個實施例中,在得到所述氧化硅薄膜后還包括在所述氧化硅薄膜上形成氮化硅薄膜或者聚酰亞胺薄膜。在其中一個實施例中,在所述氧化硅薄膜上形成測溫單元具體為:在所述氧化硅薄膜上淀積一層金屬層,所述金屬層為金屬鉑層,所述金屬鉑層呈連續弓字形結構。廣東深圳有哪家靠譜的溫度傳感器供應商嗎?深圳市美信美科技有限公司。

    鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層,也可為疊設的氧化硅層和氮化硅層。上述溫度傳感器,測溫單元設于氧化硅薄膜上,氧化硅薄膜具有較低的導熱率,因此不會影響測溫單元的測溫效果。且氧化硅薄膜與硅之間形成有空腔,空腔下方的硅不會影響空腔上方的氧化硅的隔離效果,在溫度傳感器的制備過程中,無需通過深槽刻蝕工藝將多余的硅刻蝕掉,因此簡化了溫度傳感器的制備時間,節約了成本。以上實施例的各技術特征可以進行任意的組合,為使描述簡潔,未對上述實施例中的各個技術特征所有可能的組合都進行描述,然而,只要這些技術特征的組合不存在矛盾,都應當認為是本說明書記載的范圍。以上實施例表達了本發明的幾種實施方式,其描述較為具體和詳細,但并不能因此而理解為對發明專利范圍的限制。應當指出的是,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發明的保護范圍。因此,本發明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。好的的進口溫度傳感器哪家好?認準深圳市美信美科技。成都蒸發溫度傳感器哪個耐用

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    n型多晶硅條和p型多晶硅條形狀相同,在本方案中,n型多晶硅條和p型多晶硅條為長條型,多晶硅條平行設置,具有相同的間距。在多晶硅層上淀積有第三金屬層,第三金屬層包括金屬結構和第二金屬結構。金屬結構位于相鄰多晶硅條之間,該多晶硅條通過金屬結構連接,金屬結構具體為位于相鄰多晶硅條端部位置,所有n型多晶硅條和p型多晶硅條通過該金屬結構形成一串聯結構,因此,當具有m個多晶硅條時。需要m-個金屬結構使多晶硅條串聯起來。一個n型多晶硅條與一個p型多晶硅條串聯形成一個塞貝克(seebeck)結構,在本方案中,是多個塞貝克結構串聯形成一個測溫單元,因此。m需為偶數。第二金屬結構淀積于多晶硅層外側的兩端,以便于引出溫度傳感器的輸出端子。在本實施例中,第三金屬層為金屬鋁層。上述熱電偶傳感結構,利用兩不同類型的半導體兩端的溫度不同時,會在半導體內部產生溫差電動勢,不同類型的半導體其溫差電動勢不同。將兩種半導體兩端連接形成閉合回路時,在回路中有電流產生。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經營范圍包括:一般經營項目是:電子產品及其配件的技術開發與銷售;國內貿易等。本公司主營推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR。佛山圓形溫度傳感器

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