硬質氧化全稱是硬質陽極氧化處理。硬質陽極氧化膜一般要求厚度為25-150um，大部分硬質陽極氧化膜的厚度為50-80um，膜厚小于25um的硬質陽極氧化膜，用于齒鍵和螺線等使用場合的零部件，耐磨或絕緣用的陽極氧化膜厚度約為50um，在某些特殊工藝條件下，要求生產厚度為125um以上的硬質陽極氧化膜，但是必須注意陽極氧化膜越厚，其外層的顯微硬度可以越低，膜層表面的粗糙度增加。硬質陽極氧化的槽液，一般是硫酸溶液以及硫酸添加有機酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通過降低陽極氧化溫度或降低硫酸濃度來實現硬質陽極氧化處理。對于銅含量大于5%或硅含量大于8%的變形鋁合金，或者高硅的壓鑄造鋁合金，也許還應考慮增加一些陽極氧化的特殊措施。例如：對于2XXX系鋁合金，為了避免鋁合金在陽極氧化過程中被燒損，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作為電解槽液，電流密度也應該提高到2.5A/dm以上。昆山顯榮電子工業有限公司為您提供硬質氧化，有想法的可以來電咨詢！常州硬質氧化報價

硬質陽極氧化膜應怎樣檢驗?①合格的氧化膜層呈均勻的深黑色、藍黑色或褐色。②氧化膜厚度約50μm。③氧化膜硬度HV≥300。④若氧化膜是均勻的灰黑色，只要厚度和硬度符合設計要求，仍為合格。⑤氧化膜雖然是均勻的深黑色、藍黑色或褐色，厚度和硬度也符合設計要求，但有許多白色或灰白色點，則不合格。⑥氧化膜雖然是均勻的深黑色、藍黑色或褐色，但有有規律的一道道不均勻現象，這是基體金屬的毛病，只要厚度和硬度符合設計要求，也為合格。⑦氧化膜上不允許有因燒焦而形成易擦掉的疏松膜層和因局部受熱使氧化膜被腐蝕的光亮斑點和邊緣、圓角部分膜層脫落的現象。整個零件表面除夾具印外，局部表面不得有無氧化膜的地方。允許包鋁鈑金件氧化膜出現小的裂紋。⑧氧化膜的厚度測定。從零件或試件上切取橫向試片，在金相顯微鏡下測定氧化膜的厚度，也可以用渦流測厚儀直接測出氧化膜厚度。⑨氧化膜的硬度測定：氧化膜的硬度(顯微硬度)可以用顯微硬度值在橫向試片上測出，不應低于300kgf／mm2，LYl2合金不低于250kgf／mm2。鋁型材硬質氧化質量硬質氧化，就選昆山顯榮電子工業有限公司，讓您滿意，有想法可以來我司咨詢！

為了得到質量較好的硬質陽極氧化膜，并能保證零件所需要尺寸，必須按下列要求來進行加工：1、表面光潔度。硬質陽極氧化后，零件表面的光潔度是有所改變的，對于較粗糙的表面來說，經此處理后可以顯得比原來平整一些，而對于原始光潔度較高的零件來說，往往經過此種處理后，顯示的表面光潔光亮度反而有所降低，降低的幅度在1～2級左右。2、尺寸余量。因硬質氧化膜的厚度較高，所以如需要進一步加工的鋁零件或以后需要裝配的零件，應事先留有一定的加工余量，及指定裝夾部位。因硬質陽極氧化時，要改變零件尺寸，故在機械加工時，要事先預測，氧化膜的可能厚度和尺寸公差，而后在確定硬質氧化前的零件實際尺寸，以便處理后，符合規定的公差范圍。

硬質陽極氧化和普通陽極氧化的區別：硬質氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質氧化后產品外部尺寸變大，內孔變小。一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現粉末或裂紋；硬質氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質氧化有時高達120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較薄；硬質氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態：普通氧化表面較光滑，而硬質氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。硬質氧化，就選昆山顯榮電子工業有限公司，有需要可以聯系我司哦！

硬質陽極氧化又稱厚層陽極氧化。它是50年代發展起來的新技術，氧化膜的厚度可達250um，在純鋁上獲得的氧化膜的顯微硬度可達1500HV，在鋁合金上可達300~500HV。由于硬質陽極氧化有許多獨特的物理化學性能，因此得到了普遍的應用。硬質陽極氧化膜，既有很高的硬度和耐磨性，又有良好的絕熱性及絕緣性。厚度為100um氧化膜，可耐電壓2000~2500V。在海洋及一般工業大氣中均有良好的耐蝕性。制取硬質陽極氧化膜方法很多，如硫酸法、草酸法及有機酸法等等。其中，以硫酸法應用廣，下面由深圳電鍍廠介紹一下硫酸法制取硬質陽極氧化的過程。昆山顯榮電子工業有限公司于提供硬質氧化，有需求可以來電咨詢！常熟高鹽霧硬質氧化質量

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