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ITO膜層的主要成份是氧化銦錫。在厚度只有幾千埃的情況下，氧化銦透過率高，氧化錫導電能力強，液晶顯示器所用的ITO玻璃正是一種具有高透過率的導電玻璃。由于ITO具有很強的吸水性，所以會吸收空氣中的水份和二氧化碳并產生化學反應而變質，俗稱“霉變”，因此在存放時要防潮。ITO層在活性正價離子溶液中易產生離子置換反應，形成其它導電和透過率不佳的反應物質，所以在加工過程中，盡量避免長時間放在活性正價離子溶液中。ITO層由很多細小的晶粒組成，晶粒在加溫過程中會裂變變小，從而增加更多晶界，電子突破晶界時會損耗一定的能量，所以ITO導電玻璃的ITO層在600度以下會隨著溫度的升高，電阻也增大。蘇州ITO藥劑銷售ITO堿性蝕刻液的密度太低會加重側蝕。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素：酸性氯化銅蝕刻液。1、Cu2+含量的影響。溶液中的Cu2+含量對蝕刻速率有一定的影響。一般情況下，溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時，蝕刻速率較低；在2mol/L時速率較高。隨著蝕刻反應的不斷進行，蝕刻液中銅的含量會逐漸增加。當銅含量增加到一定濃度時，蝕刻速率就會下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率，必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內。2、Cu+含量的影響。根據蝕刻反應機理，隨著銅的蝕刻就會形成一價銅離子。較微量的Cu+就會明顯的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個低的范圍內。

影響ITO蝕刻液側蝕的因素很多，下面概述幾點：1）蝕刻方式：浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側蝕，潑濺和噴淋式蝕刻側蝕較小，尤以噴淋蝕刻效果較好。2）蝕刻液的種類：不同的蝕刻液化學組分不同，其蝕刻速率就不同，蝕刻系數也不同。例如：酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常為3，堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數可達到4。近來的研究表明，以硝酸為基礎的蝕刻系統可以做到幾乎沒有側蝕，達到蝕刻的線條側壁接近垂直。這種蝕刻系統正有待于開發。ITO顯影液是一種重要的濕電子化學品。

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