IC封裝藥液由于連續處理過程中濃度不斷變化，要定期測定PH值，確定IC-502清洗劑含量濃度，保持在規定的濃度范圍內，及時補充添加，以確保清洗效果。工件油污清洗干凈后用清水沖洗，水洗后的工件再做后續處理。工件如需防銹，油污清洗干凈后直接烘干，不需要水洗，用水沖洗會影響防銹效果。定期清理脫脂槽，定期倒槽排渣。IC芯片容易生銹，不但影響外觀質量，還會影響噴漆、粘接等工藝的正常進行，如不及時處理，更會造成材料的報廢，導致不必要的經濟損失。IC封裝藥水適用于金屬表面，塑料表面，玻璃表面等的清洗和光亮。江蘇IC除膠清潔專業生產廠家

IC封裝藥液起著把金屬與腐蝕介質完全隔開的作用，防止金屬與腐蝕介質接觸，從而使金屬基本停止溶解形成鈍態達到防腐蝕的作用。防變色劑一般分為兩種：一種為有機封閉劑，一種為油性封閉劑。有機封閉劑：閃點高（110度），可水溶性，不易燃燒，使用安全，環保，無鉻，無排放；使用簡單，常溫浸泡，封閉前無需干燥產品；使用壽命長，平時操作一般只需添加，無需更換；產品封閉處理后，表面為全干性，無油感，不影響產品后期的導電與焊接性能，耐腐蝕性能提高5-20倍。蘇州電子元器件清洗劑廠家地址IC封裝藥水對黑色金屬和其它有色金屬都有輔助的防腐蝕作用。

HCFC類IC清潔劑及其清洗工藝特點：這是一種含氫的氟氯烴，其蒸發潛熱小、揮發性好，在大氣中容易分解，破壞臭氧層的作用比較小，屬于一種過渡性產品，規定在2040年以前淘汰，所以，我們不推薦使用該類清洗劑。其存在的問題主要有兩個：一是過渡性。因為對臭氧層還有破壞作用，只允許使用到2040年；二是價格比較高，清洗能力較弱，增加了清洗成本。氯代烴類的清洗工藝特點：氯代烴類如二氯甲烷、三氯乙烷等也屬于非ODS清洗劑。其清洗工藝特點是：清洗油脂類污物的能力特別強；像ODS清洗劑一樣，也可以用蒸氣洗和氣相干燥。

現代清洗技術中的關鍵要求：IC清潔劑在未來90~65nm節點技術工藝中，除了要考慮清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技術指標外，也要考慮對環境的污染以及清洗的效率其經濟效益等。硅片清洗技術評價的主要指標可以歸納為：微粗糙度（RMS)；自然氧化物去除率；金屬沾污、表面顆粒度以及有機物沾污，其他指標還包括：芯片的破損率；清洗中的再沾污；對環境的污染；經濟的可接受：包括設備與運行成本、清洗效率)等。金屬沾污在硅片上是以范德華引力、共價鍵以及電子轉移等三種表面形式存在的。這種沾污會破壞薄氧化層的完整性，增加漏電流密度，影響MOs器件的穩定性，重金屬離子會增加暗電流，情況為結構缺陷或霧狀缺陷。IC封裝藥水本劑不含磷、不易生菌、無泡。

電路板是應用較為普遍的電子產品元件單元，IC芯片是電路板中重要的組成部分。廢棄電路板與IC芯片的數量與日益增多的電子垃圾數量是成正比的，因此對廢棄電路板及IC芯片進行有效的綜合處理，無論對環境，還是社會經濟都具有極為重要的意義。目前，對廢舊電路板與IC芯片的回收方法可簡要概括如下：經過篩選，將可再次使用的進行翻新處理，然后作為翻新件投放市場再次利用。對已損壞的進行拆解，經過處理，回收塑料、玻璃及有價金屬等材料。將可使用的電路板及IC芯片等元器件進行翻新處理，并通過正規渠道進行再次利用，可很大程度保留廢舊電子垃圾的使用價值，同時也是一種較低處理成本與環保成本的方法。IC封裝藥水使金屬基本停止溶解形成鈍態達到防腐蝕的作用。IC封裝藥水生產商

由多種進口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對去除切割工藝的膠粘合劑特別研制。江蘇IC除膠清潔專業生產廠家

IC除銹活化劑溶液，其特征在于：包含百分比含量為15-40%的硫酸，百分比含量為2-20%的鹽酸，百分比含量為5-25%的過一硫酸氫鉀，百分比含量為0。1-1%的脂肪醇聚氧乙烯醚，其余為水。本發明具有危害性較小，適用性較廣，除銹活化速度快的優點。性能優良：本品可快速去除金屬表面上的油、銹和非金屬表面上的油污，無氫脆和過腐蝕現象，并有防灰功能。本品對鐵離子容忍性大，使用壽命極長，并可循環添加使用。工藝簡單：除油去銹、活化同步進行，一步完成，只需綜合處理→水洗兩道工序。江蘇IC除膠清潔專業生產廠家

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