IC封裝藥液由于連續處理過程中濃度不斷變化，要定期測定PH值，確定IC-502清洗劑含量濃度，保持在規定的濃度范圍內，及時補充添加，以確保清洗效果。工件油污清洗干凈后用清水沖洗，水洗后的工件再做后續處理。工件如需防銹，油污清洗干凈后直接烘干，不需要水洗，用水沖洗會影響防銹效果。定期清理脫脂槽，定期倒槽排渣。IC芯片容易生銹，不但影響外觀質量，還會影響噴漆、粘接等工藝的正常進行，如不及時處理，更會造成材料的報廢，導致不必要的經濟損失。IC封裝藥水耐腐蝕性能提高5-20倍。芯片封裝藥水供應商

IC除銹劑可以在不破壞基材表面外觀的前提下實現防銹功能，而且在某些特定條件下還可以增加表面的光亮度。IC除銹劑的使用工藝簡單，配方中的物質種類容易獲得，并且制備成本低，適用范圍較廣。從解決問題的角度出發，未雨綢繆，把問題遏殺在萌芽階段是解決問題的比較好途徑和手段。IC除銹劑的出現可以有效的扮演這一角色。IC除銹劑的分類：通常按照溶液的特征，IC除銹劑可以分為；水溶性IC除銹劑、油溶性IC除銹劑、乳化型IC除銹劑、氣相IC除銹劑和蠟膜型IC除銹劑等。蘇州電子元件清洗劑制造商IC封裝藥水使用簡單，常溫浸泡，封閉前無需干燥產品。

IC除銹劑除了除銹功能外，還具有防銹功能。是由強力IC除銹劑和高效緩蝕劑組成，在快速除銹的同時，對工件的材質不造成腐蝕，可作為鹽酸及硫酸的環保替代品。除銹效果迅速，可迅速除去金屬表面的銹斑。還能滲透溶解碳酸鹽等沉積物（如水垢），并將其它的不溶性物質在反應過程中分解脫落。沒有類似濃鹽酸的發煙現象和使用上的危險。可迅速去除表面及零部件，精密金屬制品及零部件等上的銹斑。使用前搖勻，將噴嘴對準需除銹的地方，對于難觸及區域使用隨罐所附細管，將細管裝在噴頭上。

硅晶圓經過SC-1和SC-2溶液清洗后，由于雙氧水的強氧化力，在晶圓表面上會生成一層化學氧化層。為了確保閘極氧化層的品質，此表面氧化層必須在晶圓清洗過后加以去除。另外，在IC制程中采用化學汽相沉積法(CVD)沉積的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相應的清洗過程中有選擇的去除。化學清洗是利用各種化學試劑和有機溶劑去除附著在物體表面上的雜質的方法。在半導體行業，化學清洗是指去除吸附在半導體、金屬材料以及用具表面上的各種有害雜質或油污的工藝過程。IC封裝藥水微蝕均一性好，藥劑穩定性良好。

IC除銹劑使用方法及注意事項：浸泡法：優點是可以在表面形成均勻的防銹膜，保證產品的完全覆蓋，成本較低，缺點是只適用于小型產品，使用低粘度的防銹油，浸泡槽必須有很好排水系統。噴霧法：適用于大型且結構復雜的產品，必須使用高效能的噴霧器，容易出現產品未能完全形成防銹膜，使用時工作環境要求通風性能要好。刷涂法：此方法使用簡單，但是必須要確保工件的每一個位置都有刷涂到，使用前刷子必需保持清潔。沖洗法：效率高，循環使用，可節省成本，但是需要定期對槽內的產品進行排水以及定期進行更換，避免水分及其他物質過多影響防銹效果。IC封裝藥水環保，無鉻，符合國家檢測標準。蘇州電子元件清洗劑制造商

IC封裝藥水膜成單獨相存在，通常是氧化金屬的化合物。芯片封裝藥水供應商

隨著芯片尺寸加大，工藝線寬減小，從9Onm工藝開始，以往IC清潔劑在清洗過程中使用的超聲波清洗遇到一些問題，如造成半導體器件結構損傷，在65nm及以下工藝，其損傷程度可能會加劇。芯片中的深溝槽結構清洗時清洗液和漂洗去離子水很難進入結構內部，難以達到清洗目的。高堆桑式和深溝槽式結構清洗后的干燥過程也是很關鍵的技術問題。一般小于130nm工藝中，要求必須去除所有大于或等于100nm的顆粒，而由于表面邊界層的限制，現行清洗技術，如液體或高壓〈液體〉噴射清洗已無法洗去0onm的顆粒。芯片封裝藥水供應商

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