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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-12-16

液質(zhì)聯(lián)用中除了樣品處理問(wèn)題、氮?dú)獾募兌纫彩呛苤匾挠绊懸蛩兀瑓s往往被忽視。膜式的發(fā)生器輕巧好用且價(jià)格便宜,但是實(shí)際供應(yīng)純度就有95-96%,且1-3年后純度即會(huì)遞減至93%左右。目前多數(shù)使用者因?yàn)橹魂P(guān)心壓力達(dá)到100psi,就以為氮?dú)鉀]問(wèn)題。實(shí)際上純度可能早已不足,并且持續(xù)污染質(zhì)譜,導(dǎo)致常常在質(zhì)譜的毛細(xì)管嚴(yán)重氧化,或者儀器靈敏度下降、離子源、碰撞池被嚴(yán)重污染時(shí),才會(huì)發(fā)現(xiàn)氮?dú)饧兌炔蛔銌?wèn)題。建議用戶在日常實(shí)驗(yàn)時(shí)便要多關(guān)注氮?dú)饧兌龋悦饧兌褥`敏度不足,影響到實(shí)驗(yàn)時(shí)才發(fā)現(xiàn),需花大錢維修質(zhì)譜。氮?dú)獍l(fā)生器,就選日本東宇機(jī)電,用戶的信賴之選,歡迎新老客戶來(lái)電!氮吹用氮?dú)獍l(fā)生器生產(chǎn)廠家

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膜分離制氮高壓空氣通過(guò)中空纖維膜組件,氮?dú)夥肿雍脱鯕夥肿拥臄U(kuò)散速度差別積累,在膜組件輸出端形成高純度的氮?dú)猓纬傻漠a(chǎn)品氣純度高可達(dá)99%,氣體流量>5000ml/min,并且可以累加使用,不影響產(chǎn)品質(zhì)量,在不考慮其它限制條件的情況下,氣體裝置可以無(wú)限擴(kuò)充。這種制氮方法膜分離制氮在工業(yè)上有不少的應(yīng)用,在實(shí)驗(yàn)室主要用于對(duì)氣體純度要求不特別高的吹掃、保護(hù)、對(duì)氧氣的置換等。?這類發(fā)生器可根據(jù)需要,調(diào)節(jié)氮?dú)獾募兌群土髁浚呖缮a(chǎn)99.999%的氮?dú)猱a(chǎn)品,流量可從幾百毫升到幾十升到幾立方每分鐘,純度大小配置靈活,可根據(jù)每個(gè)需求具體定制,技術(shù)難點(diǎn)主要是分子篩柱填裝技術(shù),分子篩填裝不好,會(huì)造成分子篩在氣體高低壓頻繁變化中互相摩擦碰撞粉化,微孔數(shù)量減少,分子篩性能急劇降低。理研分子篩氮?dú)獍l(fā)生器型號(hào)日本東宇機(jī)電是一家專業(yè)提供氮?dú)獍l(fā)生器的公司,歡迎您的來(lái)電!

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深冷空分制氮裝置適用于有極大氮?dú)庑枨蟮拇笠?guī)模工業(yè)應(yīng)用。一般會(huì)建造深冷空分制氮場(chǎng)合是專業(yè)的氣體供應(yīng)廠家,大量生產(chǎn)后分裝成杜瓦罐及鋼瓶罐;或者是使用量極大(3000Nm3/h)以上的工廠使用。中小規(guī)模的蛋器使用深冷制氮就顯得較為不適用。3000Nm3/h以下使用量的場(chǎng)合,一般依照純度不同,建議使用變壓吸附式的制氮機(jī),或者膜式的制氮機(jī)。需求氮?dú)饧兌仍?7%以上的話推薦使用變壓吸附PSA式,需求氮?dú)饧兌?7%以下的部份則推薦使用膜式氮?dú)獍l(fā)生器。

東宇氮?dú)獍l(fā)生器配有實(shí)時(shí)純度監(jiān)測(cè),可以保證每一批使用的氮?dú)赓|(zhì)量,且東宇特有的TOU高密度充填方式,除了采用優(yōu)良品質(zhì)的進(jìn)口可樂(lè)麗分子篩,并擁有優(yōu)良的填充技術(shù)以及精密的桶槽尺寸計(jì)算。良好的設(shè)計(jì)目前已有大量實(shí)績(jī)超過(guò)20年不需更換分子篩,仍可維持良好效能。分子篩的高壽命可確保現(xiàn)場(chǎng)產(chǎn)線不受污染,以及產(chǎn)線的產(chǎn)能良好發(fā)花,順暢運(yùn)行。長(zhǎng)壽命、穩(wěn)定的技術(shù),不需添加分子篩,可大幅降低維修時(shí)間以及維保費(fèi)用。證書的節(jié)能技術(shù)較高可節(jié)省80%的能耗,為企業(yè)大幅降低電費(fèi)。日本東宇機(jī)電致力于提供氮?dú)獍l(fā)生器,有想法可以來(lái)我司參觀了解。

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變壓吸附技術(shù)(簡(jiǎn)稱PSA制氮) 是一種先進(jìn)的氣體分離技術(shù),以品質(zhì)進(jìn)口碳分子篩(CMS)為吸附劑,采用常溫下變壓吸附原理,利用前端空壓機(jī)將一大氣壓的空氣產(chǎn)生高壓,高壓空氣進(jìn)入氮?dú)獾奈酆螅瑖@分子篩可分離空氣取出高純度的氮?dú)狻@醚酢⒌獌煞N氣體分子大小及擴(kuò)散速率不同,直徑較小的氣體分子(O2)擴(kuò)散速率較快,進(jìn)入碳分子篩微孔較多; 直徑較大的氣體分子(N2)擴(kuò)散速率較慢,進(jìn)入碳分子篩微孔較少。利用兩塔交錯(cuò)吸附,達(dá)成氧氮分離,可以富集高純度99.999%的氮?dú)狻5獨(dú)獍l(fā)生器,就選日本東宇機(jī)電,有需求可以來(lái)電購(gòu)買氮?dú)獍l(fā)生器!日本W(wǎng)ATERS氮?dú)獍l(fā)生器

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激光切割主要使用的輔助氣體有氧氣、氮?dú)鈨煞N切割方式。在氧氣切割時(shí),氧氣參與燃燒,斷面可能會(huì)較粗糙,且氧化反應(yīng)增大的熱影響區(qū),切割質(zhì)量相對(duì)氮?dú)馇懈顣?huì)較差,可能出現(xiàn)切縫寬、斷面斜紋、表面粗糙度差及焊渣等質(zhì)問(wèn)題。氮?dú)馇懈钪校獨(dú)獾亩铓饪杀苊膺^(guò)多的氧化反應(yīng),熔點(diǎn)區(qū)域溫度相對(duì)氧切割較低; 加上氮?dú)獾睦鋮s保護(hù)作用,反應(yīng)較平穩(wěn)均勻,切割斷面較為光滑,表面粗糙度低,而且無(wú)氧化層。氧氣切割主要應(yīng)用于碳鋼。氮?dú)馇懈钸m合鋁、黃銅、不銹鋼等。激光切割因?yàn)槭歉邷胤磻?yīng),需要極高的氮?dú)饧兌?9.999%以上,目前國(guó)內(nèi)技術(shù)需要加碳或加氫純化; 日本東宇的制氮機(jī)可不經(jīng)過(guò)純化器,即可直接達(dá)到符合使用要求的99.999%高純氮?dú)狻5涤玫獨(dú)獍l(fā)生器生產(chǎn)廠家

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