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  • 大連低溫光刻膠感光膠
    大連低溫光刻膠感光膠

    廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領域的需求。 UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,耐強酸強堿,耐高溫達 250°C,長期可靠性高,粘接強度高,重量 100g。適用于需要在特殊化學和高溫環境下進行納米壓印光刻的工藝,如半導體器件制造。 其他光刻膠 水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠研發、可定制、使用、品質保障、性能穩定的特點,重量 1L。 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,具備上述通用優勢,應用場景。 吉田半導體...

    2025-04-26
  • 廣州LED光刻膠國產廠商
    廣州LED光刻膠國產廠商

    技術研發:從配方到工藝的經驗壁壘 配方設計的“黑箱效應” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合,需通過數萬次實驗優化。例如,ArF光刻膠需在193nm波長下實現0.1μm分辨率,其光酸產率、熱穩定性等參數需精確匹配光刻機性能。日本企業通過數十年積累形成的配方數據庫,國內企業短期內難以突破。 工藝控制的極限挑戰 光刻膠生產需在百級超凈車間進行,金屬離子含量需控制在1ppb以下。國內企業在“吸附—重結晶—過濾—干燥”耦合工藝上存在技術短板,導致產品批次一致性差。例如,恒坤新材的KrF光刻膠雖通過12英寸產線驗證,但量產良率較日本同類...

    2025-04-26
  • 深圳網版光刻膠供應商
    深圳網版光刻膠供應商

    吉田半導體 YK-300 正性光刻膠:半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩定性。產品已通過中芯國際量產驗證,良率達 98% 以上,生產過程執行 ISO9001 標準,幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產與定制化需求,為國產芯片制造提供穩定材料支撐。 無鹵無鉛錫膏廠家吉田,RoHS 認證,為新能源領域提供服務!深圳網版光刻膠供應商 廣東...

    2025-04-26
  • 河南3微米光刻膠品牌
    河南3微米光刻膠品牌

    ? 化學反應: ? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,生成羧酸,在堿性顯影液中溶解; ? 負性膠:曝光后光敏劑引發交聯劑與樹脂形成不溶性網狀結構。 5. 顯影(Development) ? 顯影液: ? 正性膠:堿性水溶液(如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH),溶解曝光區域; ? 負性膠:有機溶劑(如二甲苯、醋酸丁酯),溶解未曝光區域。 ? 方法:噴淋顯影(PCB)或沉浸式顯影(半導體),時間30秒-2分鐘,需控制顯影液濃度和溫度。 ...

    2025-04-26
  • 廣西低溫光刻膠國產廠家
    廣西低溫光刻膠國產廠家

    廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領域的需求。 厚板光刻膠:JT-3001 型號,具有優異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標準,保質期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造。 負性光刻膠 SU-3 負性光刻膠:分辨率優異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應,重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。 正性光刻膠 松山湖半導體材料廠家吉田,全系列產品支持小批量試產!廣西低溫光...

    2025-04-26
  • 東莞負性光刻膠價格
    東莞負性光刻膠價格

    吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發 SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導體自主研發 SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性,已應用于高通 5G 基帶芯片量產。產品采用國產原材料與工藝,不采用國外材料,成本較進口產品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國產 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐。 光刻膠廠家推薦吉田半導體,23 年研發經驗,全自動化生產保障品質!東莞負性光刻膠價格...

    2025-04-26
  • 珠海UV納米光刻膠報價
    珠海UV納米光刻膠報價

    ? 化學反應: ? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,生成羧酸,在堿性顯影液中溶解; ? 負性膠:曝光后光敏劑引發交聯劑與樹脂形成不溶性網狀結構。 5. 顯影(Development) ? 顯影液: ? 正性膠:堿性水溶液(如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH),溶解曝光區域; ? 負性膠:有機溶劑(如二甲苯、醋酸丁酯),溶解未曝光區域。 ? 方法:噴淋顯影(PCB)或沉浸式顯影(半導體),時間30秒-2分鐘,需控制顯影液濃度和溫度。 ...

    2025-04-26
  • 杭州激光光刻膠品牌
    杭州激光光刻膠品牌

    工藝流程 ? 目的:去除基板表面油污、顆粒,增強感光膠附著力。 ? 方法: ? 化學清洗(硫酸/雙氧水、去離子水); ? 表面處理(硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,PCB基板用粗化處理)。 涂布(Coating) ? 方式: ? 旋涂:半導體/顯示領域,厚度控制精確(納米至微米級),轉速500-5000rpm; ? 噴涂/輥涂:PCB/MEMS領域,適合大面積或厚膠(微米至百微米級,如負性膠可達100μm)。 ...

    2025-04-26
  • 廣東紫外光刻膠
    廣東紫外光刻膠

    廣東吉田半導體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經濟技術開發區,注冊資本 2000 萬元。作為高新企業和廣東省專精特新企業,公司專注于半導體材料的研發、生產與銷售,產品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等領域。其光刻膠產品以高分辨率、耐蝕刻性和環保特性著稱,廣泛應用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產。 公司依托 23 年行業經驗積累,構建了完整的技術研發體系,擁有全自動化生產設備及多項技術。原材料均選用美國、德國、日本進口的材料,并通過 ISO9001:2008 質量管理體系認證,生產流程嚴格執行 8S 現場管理標準,確保...

    2025-04-26
  • 吉林油墨光刻膠工廠
    吉林油墨光刻膠工廠

    綠色制造與循環經濟 公司采用水性光刻膠技術,溶劑揮發量較傳統產品降低60%,符合歐盟REACH法規和國內環保標準。同時,其光刻膠廢液回收項目已投產,通過膜分離+精餾技術實現90%溶劑循環利用,年減排VOCs(揮發性有機物)超100噸。 低碳供應鏈管理 吉田半導體與上游供應商合作開發生物基樹脂,部分產品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強度較傳統工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領域獲得客戶青睞,相關訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。 吉田技術研發與生產能力。吉林油墨光刻膠工廠 技術優勢:23年研發沉淀與細分領域突...

    2025-04-26
  • 云南納米壓印光刻膠多少錢
    云南納米壓印光刻膠多少錢

    廣東吉田半導體材料有限公司的產品體系豐富且功能強大。 在光刻膠領域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環節提供關鍵支持,確保芯片線路的精細刻畫; 納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細的微納結構; LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產過程中的光刻需求,保障面板成像質量。 在電子焊接方面,半導體錫膏與焊片性能,能實現可靠的電氣連接,廣泛應用于各類電子設備組裝。 靶材產品在材料濺射沉積工藝中發揮關鍵作用,通過精細控制材料沉積,為半導體器件制造提供高質量的薄膜材料。憑借出色品質,遠銷全球,深受眾多世界 500 強企業和電子加工企業青睞 。 光刻膠是有什么東西?云...

    2025-04-26
  • 福州激光光刻膠
    福州激光光刻膠

    依托自主研發與國產供應鏈,吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%,躋身國內前段企業。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體,實現 100% 國產化替代。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,性能優于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內多家大型企業的深度合作,產品覆蓋智能手機、電視等顯示終端,年供貨量超 200 噸。公司建立國產原材料溯源體系,確保每批次產品穩定性,推動 LCD 面板材料國產化進程。 負性光刻膠生產廠家。福州激光光刻膠 ? 正性光刻膠 ? YK-300:適用于半導體制造,具備高分辨率(線寬≤10μm)、耐高溫...

    2025-04-26
  • 濟南LED光刻膠報價
    濟南LED光刻膠報價

    納米制造與表面工程 ? 納米結構模板:作為納米壓印光刻(NIL)的母版制備材料,通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案(如50nm以下的柱陣列、孔陣列),用于批量復制微流控芯片或柔性顯示基板。 ? 表面功能化:在基底表面構建納米級粗糙度(如仿生荷葉超疏水表面)或化學圖案(引導細胞定向生長的納米溝槽),用于生物醫學或能源材料(如電池電極的納米陣列結構)。 量子技術與精密測量 ? 超導量子比特:在鈮酸鋰或硅基底上,通過光刻膠定義納米級約瑟夫森結陣列,構建量子電路。 ? 納米傳感器:制備納米級懸臂梁(表面鍍光刻膠圖案化的金...

    2025-04-26
  • 內蒙古正性光刻膠生產廠家
    內蒙古正性光刻膠生產廠家

    關鍵工藝流程 涂布: ? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠,厚度控制在0.1-5μm(依制程精度調整),需均勻無氣泡(旋涂轉速500-5000rpm)。 前烘(Soft Bake): ? 加熱(80-120℃)去除溶劑,固化膠膜,增強附著力(避免顯影時邊緣剝離)。 曝光: ? 光源匹配: ? G/I線膠:汞燈(適用于≥1μm線寬,如PCB、LCD)。 ? DUV膠(248nm/193nm):KrF/ArF準分子激光(用于28nm-1...

    2025-04-26
  • 蘇州LCD光刻膠價格
    蘇州LCD光刻膠價格

    吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發 SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導體自主研發 SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性,已應用于高通 5G 基帶芯片量產。產品采用國產原材料與工藝,不采用國外材料,成本較進口產品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國產 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐。 松山湖半導體材料廠家吉田,全系列產品支持小批量試產!蘇州LCD光刻膠價格 正性光刻...

    2025-04-26
  • 青島負性光刻膠廠家
    青島負性光刻膠廠家

    行業地位與競爭格局 1. 國際對比 ? 技術定位:聚焦細分市場(如納米壓印、LCD),而國際巨頭(如JSR、東京應化)主導半導體光刻膠(ArF、EUV)。 ? 成本優勢:原材料自主化率超80%,成本低20%;國際巨頭依賴進口原材料,成本較高。 ? 客戶響應:48小時內提供定制化解決方案,認證周期為國際巨頭的1/5。 2. 國內競爭 國內光刻膠市場仍由日本企業壟斷(全球市占率超60%),但吉田在納米壓印、LCD光刻膠等領域具備替代進口的潛力。與南大光電、晶瑞電材等企業相比,吉田在細分市...

    2025-04-26
  • 西安紫外光刻膠生產廠家
    西安紫外光刻膠生產廠家

    市場與客戶優勢:全球化布局與頭部客戶合作 全球客戶網絡 產品遠銷全球,與三星、LG、京東方等世界500強企業建立長期合作,在東南亞、北美市場市占率超15%。 區域市場深耕 依托東莞松山湖產業集群,與華為、OPPO等本土企業合作,在消費電子、汽車電子領域快速響應客戶需求。 產業鏈配套優勢:原材料與設備協同 主要原材料自主化 公司自主生產光刻膠樹脂、光引發劑,降低對進口依賴,成本較國際競品低20%。 設備與工藝協同 與國內涂膠顯影設備廠商合作,開發適配國產...

    2025-04-26
  • 湖南LCD光刻膠價格
    湖南LCD光刻膠價格

    國產替代進程加速 日本信越化學因地震導致KrF光刻膠產能受限后,國內企業加速驗證本土產品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產線2024年12月獲兩家大廠百萬大單,二期300噸生產線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數接近日本UV1610,已通過中芯國際14nm工藝驗證。預計到2025年,國內KrF/ArF光刻膠國產化率將從不足5%提升至10%。 原材料國產化突破 光刻膠樹脂占成本50%-60%,八億時空的光刻膠樹脂產線預計2025年實現百噸級量產,其產品純度達到99.999%,金屬雜質含量低于1ppb。怡達股份作為全球電子級PM溶劑前段(市占率超...

    2025-04-26
  • 無錫油性光刻膠報價
    無錫油性光刻膠報價

    廣東吉田半導體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經濟技術開發區,注冊資本 2000 萬元。作為高新企業和廣東省專精特新企業,公司專注于半導體材料的研發、生產與銷售,產品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等領域。其光刻膠產品以高分辨率、耐蝕刻性和環保特性著稱,廣泛應用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產。 公司依托 23 年行業經驗積累,構建了完整的技術研發體系,擁有全自動化生產設備及多項技術。原材料均選用美國、德國、日本進口的材料,并通過 ISO9001:2008 質量管理體系認證,生產流程嚴格執行 8S 現場管理標準,確保...

    2025-04-26
  • 吉林光刻膠國產廠商
    吉林光刻膠國產廠商

    晶圓制造(前道工藝) ? 功能:在硅片表面形成高精度電路圖形,是光刻工藝的主要材料。 ? 細分場景: ? 邏輯/存儲芯片:用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠(分辨率0.25-1μm)、14nm以下先進制程的ArF浸沒式光刻膠(分辨率≤45nm),以及極紫外(EUV)光刻膠(目標7nm以下,研發中)。 ? 功率半導體(如IGBT):使用厚膜光刻膠(膜厚5-50μm),滿足深溝槽刻蝕需求。 ? MEMS傳感器:通過高深寬比光刻膠(如SU-8)實現微米級結構(如加速度計、陀螺儀的懸臂梁)。 ...

    2025-04-26
  • 天津納米壓印光刻膠國產廠家
    天津納米壓印光刻膠國產廠家

    研發投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發費用約2億元,而國際巨頭年研發投入超10億美元。國內企業如彤程新材2024年半導體光刻膠業務營收只5.4億元,研發投入占比不足15%,難以支撐長期技術攻關。 2. 價格競爭的“雙重擠壓” 國內PCB光刻膠價格較國際低30%,但半導體光刻膠因性能差距,價格為進口產品的70%,而成本卻高出20%。例如,國產ArF光刻膠售價約150萬元/噸,而日本同類產品為120萬元/噸,且性能更優。 突破路徑與未來展望 原材料國產化攻堅:聚焦樹脂單體合成、光酸純化等關鍵環節,推動八億時空、...

    2025-04-25
  • 四川阻焊油墨光刻膠品牌
    四川阻焊油墨光刻膠品牌

    全品類覆蓋 吉田半導體產品線涵蓋正性 / 負性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領域需求,技術布局全面性于多數國內廠商。 關鍵技術突破 納米壓印技術:JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達 250℃,支持納米級精度圖案復制,適用于第三代半導體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領域,技術指標接近國際先進水平。 水性環保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統有機溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 標準,環保性能優于同類產品。 厚膜工藝...

    2025-04-25
  • 河南UV納米光刻膠
    河南UV納米光刻膠

    客戶需求導向 支持特殊工藝需求定制,例如為客戶開發光刻膠配方,提供從材料選擇到工藝優化的全流程技術支持,尤其在中小批量訂單中靈活性優勢。 快速交付與售后支持 作為國內廠商,吉田半導體依托松山湖產業集群資源,交貨周期較進口品牌縮短 30%-50%,并提供 7×24 小時技術響應,降低客戶供應鏈風險。 性價比優勢 國產光刻膠價格普遍低于進口產品 30%-50%,吉田半導體通過規?;a和供應鏈優化進一步壓縮成本,同時保持性能對標國際品牌,適合對成本敏感的中低端市場及國產替代需求。 政策與市場機遇 受益于國內半導體產業鏈自主化趨勢,吉田半導體作為 “專精特...

    2025-04-25
  • 常州阻焊油墨光刻膠價格
    常州阻焊油墨光刻膠價格

    吉田半導體獲評 "專精特新" 企業,行業技術標準,以技術創新與標準化生產為,吉田半導體榮獲 "廣東省專精特新企業" 稱號,樹立行業。 憑借在光刻膠領域的表現,吉田半導體獲評 "廣東省專精特新企業"" ",承擔多項國家 02 專項課題。公司主導制定《半導體光刻膠用樹脂技術規范》等行業標準,推動國產材料標準化進程。未來,吉田半導體將繼續以" 中國半導體材料方案提供商 "為愿景,深化技術研發與市場拓展,為全球半導體產業發展貢獻" 中國力量 "。半導體芯片制造,用于精細電路圖案光刻,決定芯片性能與集成度。常州阻焊油墨光刻膠價格 憑借多年研發積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領域的豐富...

    2025-04-25
  • 青海激光光刻膠工廠
    青海激光光刻膠工廠

    吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產技術賦能 5G 芯片封裝 自主研發 SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導體自主研發 SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性,已應用于高通 5G 基帶芯片量產。產品采用國產原材料與工藝,不采用國外材料,成本較進口產品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國產 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐。 廣東光刻膠廠家哪家好?青海激光光刻膠工廠 廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品...

    2025-04-25
  • 福州油性光刻膠工廠
    福州油性光刻膠工廠

    廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,各有特性與優勢,適用于不同領域。 LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點,重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝,能確保 LCD 生產過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果。 半導體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g。主要用于半導體制造工藝,滿足半導體器件對光刻膠在化學穩定性和電氣性能方面的要求。 耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中,比如一些特殊環境下的半導體加工或...

    2025-04-25
  • 山東油墨光刻膠廠家
    山東油墨光刻膠廠家

    客戶需求導向 支持特殊工藝需求定制,例如為客戶開發光刻膠配方,提供從材料選擇到工藝優化的全流程技術支持,尤其在中小批量訂單中靈活性優勢。 快速交付與售后支持 作為國內廠商,吉田半導體依托松山湖產業集群資源,交貨周期較進口品牌縮短 30%-50%,并提供 7×24 小時技術響應,降低客戶供應鏈風險。 性價比優勢 國產光刻膠價格普遍低于進口產品 30%-50%,吉田半導體通過規?;a和供應鏈優化進一步壓縮成本,同時保持性能對標國際品牌,適合對成本敏感的中低端市場及國產替代需求。 政策與市場機遇 受益于國內半導體產業鏈自主化趨勢,吉田半導體作為 “專精特...

    2025-04-25
  • 遼寧LED光刻膠品牌
    遼寧LED光刻膠品牌

    國家大基金三期:注冊資本3440億元,明確將光刻膠列為重點投資領域,計劃投入超500億元支持樹脂、光引發劑等原料研發,相當于前兩期投入總和的3倍。 地方專項政策:湖北省對通過驗證的光刻膠企業給予設備采購補貼+稅收減免,武漢太紫微憑借全流程國產化技術獲中芯國際百萬級訂單;福建省提出2030年化工新材料自給率達90%,光刻膠是重點突破方向。 研發專項:科技部“雙十計劃”設立20億元經費,要求2025年KrF/ArF光刻膠國產化率突破10%,并啟動EUV光刻膠預研。 LCD 光刻膠供應商哪家好?吉田半導體高分辨率 + 低 VOC 配方!遼寧LED光刻膠品牌...

    2025-04-25
  • 中山厚膜光刻膠價格
    中山厚膜光刻膠價格

    以 15% 年研發投入為驅動,吉田半導體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發,搶占行業制高點。布局下一代光刻技術。 面對極紫外光刻技術挑戰,吉田半導體與中科院合作開發化學放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm2)和耐蝕性(>80%)指標上取得階段性進展。同時,公司前瞻性布局木基光刻膠研發,對標日本王子控股技術,探索生物基材料在半導體封裝中的應用。這些技術儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國在下一代光刻技術中占據重要地位。光刻膠解決方案找吉田,ISO 認證 +8S 管理,良率達 98%!中山厚膜光刻膠價格 納米壓印光刻膠 微納光學器件制造:制作衍射光學元件、微...

    2025-04-25
  • 武漢水油光刻膠工廠
    武漢水油光刻膠工廠

    LCD顯示 ? 彩色濾光片(CF): ? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,線寬精度±2μm,透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍像素,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性。 ? 陣列基板(Array): ? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,分辨率≤3μm。 OLED顯示(柔性/剛性) ? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機發光材料的 confinement 結構,線寬精度±1μm,需耐溶劑侵蝕(適應蒸鍍工藝)。 ...

    2025-04-25
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