靶中毒現象(1)正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。4、靶中毒的物理解釋（1）一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發生靶中毒時，濺射電壓會***降低。同時還進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。杭州氮化鉿靶

真空鍍膜設備替代電鍍設備是發展的必然     2012年全國化學電鍍產生的污水和重金屬排放量達到3.5億噸，固體廢物達到4.1萬噸，酸性氣體達到2.3萬立方米，由于真空鍍膜設備逐漸應用到市場上，污染排放量比2011年有所下降，但仍是一個不可忽視的數據，為處理這大量的污染，大部分企業已投放了共5868.1億元在污水治理方面，464.8億元在固體廢物治理方面，974.9億元在酸性氣體治理方面，但仍然有部分企業沒有完善治理措施，造成大量污染。         使用真空鍍膜設備進行電鍍可以有效改善污染情況，它不像化學電鍍需要使用重金屬溶液和酸性溶液進行鍍膜，而是在真空環境下利用蒸發或濺射方式進行鍍膜，完全沒有污染產生，是一種綠色低碳、符合可持續發展戰略的產業，已經越來越多企業淘汰了舊方式化學電鍍而轉用真空電鍍，但還有很多企業沒意識到環保的重要性，不懂得綠色生產其實是為自己和后代創建美好生存環境的道理。         綠色環保產業是必然的發展趨勢，造成嚴重污染的化學電鍍終會退出歷史舞臺，取而代之的是真空電鍍，利用真空鍍膜機鍍膜成為主流是不可質疑的。成都定制合金靶廠家果用冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發生開裂或彎曲。

玫瑰金靶材有哪些？ PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的，不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區別，大概分為以下幾種： 1、皇冠金（crown gold），黃金含量在22K(91.667％)，由英國亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見的也是典型的18K玫瑰金，黃金含量也在18K(75％)，但其它另含有約4％的銀和21％的銅，呈現美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金，黃金含量在14K(58.33％)，其它添加金屬為銅(41.67％)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素，用來達到不同的色調或用來改變鍍層的性能，這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調都有一些差異的原因之一。

什么是真空鍍鋁膜，應用在哪些領域？ 真空鍍鋁薄膜是在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜的一種工藝，我國鍍鋁膜產能已達到40萬噸。主要用于風味食品、日用品、農產品、藥品、化妝品的包裝。 真空鍍鋁薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子束等加熱方式使鋁熔化蒸發，在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜的一種工藝。在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜或鍍鋁紙。 用于包裝上的真空鍍鋁薄膜具有鋁材用量少、耐折疊性高、阻隔性能高、抗靜電等特點，使鍍鋁薄膜成為一種性能優良、經濟美觀的新型復合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復合材料。主要用于風味食品、日用品、農產品、藥品、化妝品等的包裝。

半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

利用原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM)，對所制備的非晶硅薄膜進行了定性和定量的表征，研究了濺射功率、襯底溫度、濺射時間、氬氣氣壓等因素對非晶硅薄膜表面形貌和厚度的影響。實驗結果表明：非晶硅薄膜的表面粗糙度會隨濺射功率、濺射時間和濺射氣壓的增加而增大，而隨著襯底加熱溫度的增加而減小。   對制備的非晶硅薄膜在不同溫度和時間進行了退火處理。再利用X- 射線衍射儀(XRD)和拉曼光譜儀，對不同退火溫度的樣品進行晶化程度的表征。實驗結果表明：不同條件制備的非晶硅薄膜在750℃退火1 h 后就已發生不同程度的晶化，并且直流磁控濺射制備的非晶硅薄膜比射頻磁控濺射制備的非晶硅薄膜更容易發生晶化;退火溫度越高，非晶硅薄膜晶化速率越快。   此外，通過拉曼激光誘導晶化，結果表明：拉曼激光誘導非晶硅晶化為局域晶化，具有晶化速度快的特點;晶化過程中，需要控制激光強度，過強的激光會把非晶硅薄膜燒蝕掉。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。杭州氮化鉿靶

一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物。杭州氮化鉿靶

磁控濺射鍍膜生產ZnO∶Al（AZO）薄膜的工藝探討目前主要的薄膜太陽能電池有：碲化鎘（CdTe）系薄膜太陽能電池、硒銦銅（CIS）系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價格低廉、原材料豐富且性能穩定的絨面ZnO∶Al陷光結構來作為薄膜太陽能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結構的AZO透明導電薄膜可以增強太陽光的散射作用，改善陷光效果，增加電池對太陽能的吸收量，提高薄膜太陽能電池的轉換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優點，是較為合適的生產AZO薄膜的工藝方法。目前由磁控濺射工藝生產透明導電薄膜AZO時所用靶材有兩種類型：①陶瓷AZO靶材；②合金鋅鋁靶材。應根據實際情況，選擇適合本企業的靶材產品。作為一種新的TCO材料，AZO相對于ITO和FTO有很大優勢，要大規模產業化還必須在如何降低設備及工藝成本上進一步研發。從根本上說，AZO薄膜的結構性能的好壞決定了其光電性能的優劣，必須在工藝參數上多做研究，實現高質量和低成本的雙贏。杭州氮化鉿靶

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外知名研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列高品質濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供高品質的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。