所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實施例4本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.9mm；所述靶材表面的硬度為25hv；其中，所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁；所述背板的材質包括銅。所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實施例5本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.82mm；所述靶材表面的硬度為21hv；密度也是靶材的關鍵性能指標之一。鈦酸鋰靶材價格

釬焊：一般使用軟釬料的情況下，要求濺射功率小于20W/cm2，釬料常用In、Sn、In-Sn；導電膠：采用的導電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。二.綁定的適用范圍：建議綁定的靶材：ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結靶材；錫、銦等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴的情況等。但下列情況綁定有弊端：1.熔點低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時候可能會變軟變形；2.貴金屬靶材，一是實際重量易出現分歧，二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料，建議墊一片銅片。三.背靶的選擇對材質的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右；導電性好：常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強度足夠：太薄，易變形，不易真空密封；結構要求：空心或者實心結構；厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。鈦酸鋰靶材價格金屬靶材，一是實際重量易出現分歧，二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料，建議墊一片銅片。

作為本發明 的技術方案，所述靶材的比較大厚度為28-30mm，例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等，但不限于所列舉的數值，該范圍內其他未列舉的數值同樣適用。作為本發明 的技術方案，所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板。作為本發明 的技術方案，所述靶材呈凹形結構。作為本發明 的技術方案，所述靶材包括用于濺射的濺射面。 地，所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面。作為本發明 的技術方案，所述斜面與水平面的夾角≤10°，例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等，但不限于所列舉的數值，該范圍內其他未列舉的數值同樣適用。作為本發明 的技術方案，所述斜面位于所述***平面和第二平面之間。 地，所述平面為圓形。 地，所述第二平面為環形。

純度：純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業的迅速發展，硅片尺寸由6”、8”發展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。雜質含量：靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。不拋光去除表面變質部分，沉積到基材上的膜層性質就是表面變質的雜質。

靶材的比較大厚度為25mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為5°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁；所述背板的材質包括鋁。所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實施例2提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為6mm；所述靶材表面的硬度為30hv；其中，所述靶材的比較大厚度為30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為8°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鈦；所述背板的材質包括銅。在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高空間的導通能力，降低等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。鈦酸鋰靶材價格

濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類。鈦酸鋰靶材價格

靶中毒現象：正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。靶中毒的物理解釋：一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發生靶中毒時，濺射電壓會明顯降低。金屬靶材與化合物靶材本來濺射速率就不一樣，一般情況下金屬的濺射系數要比化合物的濺射系數高，所以靶中毒后濺射速率低。（3）反應濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。鈦酸鋰靶材價格

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。