磁控靶濺射沉積率的影響因素 濺射沉積率是表征成膜速度的參數，其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場強度、靶源與基片的間距等影響因素外，還受靶面的功率密度，亦即靶電源輸出的“濺射電壓與電流”兩個重要因素的直接影響。 1、濺射電壓與沉積率   在影響濺射系數的諸因數中，當靶材、濺射氣體等業已選定之后，比較起作用的就是磁控靶的放電電壓。一般來說，在磁控濺射正常工藝范圍內，放電電壓越高，磁控靶的濺射系數就越大。 2、濺射電流與沉積率 磁控靶的濺射電流與靶面離子流成正比，因此對沉積率的影響比電壓要大得多。增加濺射電流的辦法有兩個：一個是提高工作電壓;另一個是適當提高工作氣體壓力。 3、濺射功率與沉積率   一般來說，磁控靶的濺射功率增高時，薄膜的沉積率速率也會變大;這里有一個先決條件，就是：加在磁控靶的濺射電壓足夠高，使工作氣體離子在陰-陽極間電場中獲得的能量，足以大過靶材的“濺射能量閥值”。

濺射的時候會先濺射凸起，濺射時間長了，靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態不需要拋光。廣東Hf靶材

鋁鈧合金靶材（AlSc)，尺寸按需求定制，比列按需求定制，含鈧比較高能做到AlSc45wt%，質量優異，雜質含量低，歡迎新老客戶來電咨詢洽談。江陰典譽新材料科技有限公司生產的金屬鈧，品質優異，**全球。鋁鈧合金生產歷史悠久，擁有豐富的經驗，目前推出的鋁鈧合金靶材已被微電子行業大型廠商采用。相關靶材清單如下：稀土合金靶材：鋁鈧AlSc;鈰釓CeGd;鈰鎂CeMg;鈰釤CeSm;鏑鈷DyCo;鏑鐵DyFe;釓銅GdCu;釓鐵GdFe;鈥銅HoCu;鑭鋁LaAl;鑭鎳LaNi;鋁釹AlNd;釹鐵NdFe;釹鐵硼NdFe；鎳鎂鈰NiMgCe;鎳鎂鐵鈰NiMgFeCe;鋱鏑鐵TbDyFe;鋱鐵TbFe;釔鋁YAl;釔銅YCu;釔鐵YFe;釔鎂YMg;釔鎳YNi;釔鋯ZrY四川鐵靶材濺射過程不影響靶材合金、混合材質的比例和性質。

電解錳片狀99.7%1-10mm真空熔煉Co-F3501電解鈷片狀99.95%1-10mm真空熔煉Co-I3504電積鈷塊狀99.95%40*40*5mm真空熔煉Co-G3533鈷顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉W-G3536m真空熔煉Ta-G3533鉭顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Nb-G3533鈮顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Mo-G3533m真空熔煉Si-I5011多晶硅塊狀99.999%不規則塊狀真空熔煉In-G4501銦顆粒99.995%1-3mm真空熔煉Zr-I2402海綿鋯塊狀99.4%3-25mm真空熔煉Hf-I2402海m真空熔煉Ge-G5006鍺顆粒99.999%3-5mm真空熔煉La-I3011鑭塊狀99.9%不規則塊狀真空熔煉Er-I3011鉺塊狀99.9%不規則塊狀真空熔煉Dy-I3011鏑塊狀99.9%不規則塊狀真空熔煉W-P3504鎢粉末99.95%325目粉末冶金Al-P3504&nbs5目粉末冶金TiC-P2514碳化鈦粉末99.5%3-5μm粉末冶金HfC-P2514碳化鉿粉末99.5%3-5μm粉末冶金ZrB2-P2519二硼化鋯粉末99.5%10μm粉末冶金Ti-F2612.2*L耗材配件Ta-F3513鉭0*0.2mm耗材配件Nb-F3513*100*0.2mm耗材配件合金定制流程：1.客戶提供需要的配比、塊材大小和用量要求；

氣體壓強對靶濺射電壓的影響   在磁控濺射或反應磁控濺射鍍膜的工藝過程中，工作氣體或反應氣體壓強對磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。   1.工作氣體壓強對靶濺射電壓的影響   一般的規律是：在真空設備環境條件確定和靶電源的控制面板設置參數不變時，隨著工作氣體(如氬氣)壓強(0.1~10Pa)的逐步增加，氣體放電等離子體的密度也會同步增加，致使等離子體等效阻抗減小，磁控靶的濺射電流會逐步上升，濺射工作電壓亦會同步下降。   2. 反應氣體壓強對靶濺射電壓的影響   在反應磁控濺射鍍膜的工藝過程中，在真空設備環境條件確定和靶電源的控制面板設置參數不變時，隨著反應氣體(如氮氣、氧氣)壓強(或流量)的逐步增加(一般應注意不要超過工藝設定值的上限值)，隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋，陰-陽極間放電的等效阻抗也會同步增高，磁控靶的濺射電流會逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽極消失”為止)，濺射工作電壓亦會同步上升。

在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高空間的導通能力，降低等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。

磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎？磁控濺射過程中，等離子體的離子撞擊靶材，濺射出靶材的原子、原子團、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團沉積到基材上形成薄膜。濺射發生在靶材表面，靶材表面物理狀態不均勻也沒有關系，濺射的時候會先濺射凸起，濺射時間長了，靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態不需要拋光。濺射過程不影響靶材合金、混合材質的比例和性質，所以如果是表面容易變質的靶材，如果不拋光去除表面變質部分，沉積到基材上的膜層性質就是表面變質的雜質。

厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。常州鈦鈮靶材貼合

一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數比較穩定，容易控制。廣東Hf靶材

3D玻璃漸變色的應用 3D玻璃漸變色主要應用于3C產品，特別是手機領域。隨著雙玻璃加金屬邊框的盛行，3D后蓋裝飾工藝需要不斷革新。現有的裝飾工藝主要是在裝飾防爆膜上進行鍍膜絲印，再與3D玻璃貼合實現裝飾效果，外觀裝飾主要還是防爆膜紋理和鍍膜顏色搭配實現。漸變色效果可以通過多種途徑實現，包括：印刷、轉印、真空鍍膜、噴涂等。由于技術的瓶頸問題，現在量產的3D玻璃漸變主要有印刷和真空鍍膜兩種途徑。 漸變效果可大致分為同色漸變、鄰近色漸變、對比色漸變。漸變顏色的選擇對于印刷工藝的限制會小一些，選擇范圍更加寬。印刷工藝可以選擇對應顏色及對應顏色帶范圍進行印刷，能夠實現較為多元化的色彩沖撞效果，滿足設計者的不同變色需求；作為手機多會選擇的真空鍍膜裝飾工藝，對于漸變色的裝飾效果也可以達到夢幻流暢的效果，但色彩變化會有一定限制。 真空鍍膜漸變只能遵循顏色光譜變化規律：紅橙黃綠藍靛紫順序漸變，難以實現顏色的跨越，當然，有的設計者也會通過其他工藝的疊加實現更多元化的漸變效果。

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江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。