作為本發明 的技術方案，所述靶材的材質包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種。作為本發明 的技術方案，所述背板的材質包括銅和/或鋁。作為本發明 的技術方案，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.75-6mm；所述靶材表面的硬度為20-30hv；其中，所述靶材的比較大厚度為20-30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種；所述背板的材質包括銅和/或鋁。與現有技術方案相比，本發明具有以下有益效果：本發明中，通過調整靶材表面的高度差及硬度，利用二者之間的協同效果保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。湖北氮化鋯靶材

磁控濺射離子鍍   (1)在基體和工件上是否施加(直流或脈沖)負偏壓，利用負偏壓對離子的吸引和加速作用，是離子鍍與其它鍍膜類型的一個主要區別。蒸發鍍時基體和工件上加有負偏壓就是蒸發離子鍍 ;多弧鍍時基體和工件上加有負偏壓就是多弧離子鍍;磁控濺射時基體和工件上加有負偏壓就是磁控濺射離子鍍，這是磁控濺射離子鍍技術的一個重要特點。   (2)磁控濺射離子鍍是把磁控濺射和離子鍍結合起來的技術。在同一個真空腔體內既可實現氬離子對磁控靶材的穩定濺射，又實現了高能靶材離子在基片負偏壓作用下到達基片進行轟擊、濺射、注入及沉積作用過程。整個鍍膜過程都存在離子對基片和工件表面的轟擊，可有效基片和工件表面的氣體和污物;使成膜過程中，膜層表面始終保持清潔狀態。   (3) 磁控濺射離子鍍可以在膜-基界面上形成明顯的混合過渡層(偽擴散層)，提高膜層附著強度;可以使膜層與工件形成金屬間化合物和固熔體，實現材料表面合金化，甚至出現新的晶相結構。   (4)磁控濺射離子鍍形成膜層的膜基結合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。

CdSe靶材廠家為確保足夠的導熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。

為確保足夠的導熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意一定要仔細檢查和明確所使用濺射頭冷卻壁的平整度，同時確保O型密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設備運行過程中可能會產生的污垢會沉積在陰極冷卻水槽內，所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻水槽進行檢查和清理，確保冷卻水循環的順暢和進出水口不會被堵塞。有些陰極設計是與陽極的空隙較小，所以在安裝靶材時需要確保陰極與陽極之間沒有接觸也不能存在導體，否則會產生短路。請參考設備商操作手冊中關于如何正確安裝靶材的相關信息。在收緊靶材夾具時，請先用手轉緊一顆鏍栓，再用手轉緊對角線上的另外一顆鏍栓，如此重復直到安裝上所有鏍栓后，再用工具收緊。

與實施例1的區別 在于所述靶材表面的硬度為10hv；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對比例4與實施例1的區別 在于所述靶材表面的硬度為35hv；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。通過上述實施例和對比例的結果可知，本發明中，通過調整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。申請人聲明，本發明通過上述實施例來說明本發明的詳細結構特征，但本發明并不局限于上述詳細結構特征，即不意味著本發明必須依賴上述詳細結構特征才能實施。所屬技術領域的技術人員應該明了，對本發明的任何改進，對本發明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等，均落在本發明的保護范圍和公開范圍之內。以上詳細描述了本發明的 實施方式，但是，本發明并不限于上述實施方式中的具體細節，在本發明的技術構思范圍內，可以對本發明的技術方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本發明的保護范圍。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。

什么是電致變色，它有哪些分類：   電致變色是指材料的光學屬性（反射率、透過率、吸收率等）在外加電場的作用下發生穩定、可逆的顏色變化的現象，在外觀上表現為顏色和透明度的可逆變化。具有電致變色性能的材料稱為電致變色材料，用電致變色材料做成的器件稱為電致變色器件。 電致變色材料分類： 一、無機電致變色材料   無機電致變色材料的典型是三氧化鎢，目前，以WO3為功能材料的電致變色器件已經產業化。 二、有機電致變色材料   有機電致變色材料主要有聚噻吩類及其衍生物、紫羅精類、四硫富瓦烯、金屬酞菁類化合物等。以紫羅精類為功能材料的電致變色材料已經得到實際應用。

金屬靶表面氧化或有不清潔物質，打磨清理干凈后即可。CdSe靶材廠家

靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。湖北氮化鋯靶材

靶材的比較大厚度為20-30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種；所述背板的材質包括銅和/或鋁。與現有技術方案相比，本發明具有以下有益效果：本發明中，通過調整靶材表面的高度差及硬度，利用二者之間的協同效果保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。下面對本發明進一步詳細說明。但下述的實例 是本發明的簡易例子，并不**或限制本發明的權利保護范圍，本發明的保護范圍以權利要求書為準。具體實施方式為更好地說明本發明，便于理解本發明的技術方案，本發明的典型但非限制性的實施例如下：實施例1本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為；所述靶材表面的硬度為23hv湖北氮化鋯靶材

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。