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國(guó)內(nèi)熱紅外顯微鏡貨源充足

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-07-20

致晟光電的熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)系列 ——RTTLIT P10 實(shí)時(shí)瞬態(tài)鎖相熱分析系統(tǒng),搭載非制冷型熱紅外成像探測(cè)器,采用鎖相熱成像(Lock-In Thermography)技術(shù),通過調(diào)制電信號(hào)大幅提升特征分辨率與檢測(cè)靈敏度,具備高靈敏度、高性價(jià)比的突出優(yōu)勢(shì)。該系統(tǒng)鎖相靈敏度可達(dá) 0.001℃,顯微分辨率可達(dá) 5μm,分析速度快且檢測(cè)精度高,重點(diǎn)應(yīng)用于電路板失效分析領(lǐng)域,可多用于適配 PCB、PCBA、大尺寸主板、分立元器件、MLCC 等產(chǎn)品的維修檢測(cè)場(chǎng)景。 熱紅外顯微鏡對(duì)集成電路進(jìn)行熱檢測(cè),排查內(nèi)部隱藏故障 。國(guó)內(nèi)熱紅外顯微鏡貨源充足

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當(dāng)電子設(shè)備中的某個(gè)元件發(fā)生故障或異常時(shí),常常伴隨局部溫度升高。熱紅外顯微鏡通過高靈敏度的紅外探測(cè)器,能夠捕捉到極其微弱的熱輻射信號(hào)。這些探測(cè)器通常采用量子級(jí)聯(lián)激光器等先進(jìn)技術(shù),或其他高性能紅外傳感方案,具備寬溫區(qū)、高分辨率的成像能力。通過對(duì)熱輻射信號(hào)的精細(xì)探測(cè)與分析,熱紅外顯微鏡能夠?qū)㈦娮釉O(shè)備表面的溫度分布以高對(duì)比度的熱圖像形式呈現(xiàn),直觀展現(xiàn)熱點(diǎn)區(qū)域的位置、尺寸及溫度變化趨勢(shì),從而幫助工程師快速鎖定潛在的故障點(diǎn),實(shí)現(xiàn)高效可靠的故障排查。顯微熱紅外顯微鏡原理熱紅外顯微鏡利用其高分辨率,觀察半導(dǎo)體制造過程中的熱工藝缺陷 。

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熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)技術(shù),作為半導(dǎo)體失效分析領(lǐng)域的關(guān)鍵手段,通過捕捉器件內(nèi)部產(chǎn)生的熱輻射,實(shí)現(xiàn)失效點(diǎn)的精細(xì)定位。它憑借對(duì)微觀熱信號(hào)的高靈敏度探測(cè),成為解析半導(dǎo)體故障的 “火眼金睛”。然而,隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷升級(jí),器件正朝著超精細(xì)圖案制程與低供電電壓方向快速演進(jìn):線寬進(jìn)入納米級(jí),供電電壓降至 1V 以下。這使得失效點(diǎn)(如微小短路、漏電流區(qū)域)產(chǎn)生的熱量急劇減少,其輻射的紅外線信號(hào)強(qiáng)度降至傳統(tǒng)檢測(cè)閾值邊緣,疊加芯片復(fù)雜結(jié)構(gòu)的背景輻射干擾,信號(hào)提取難度呈指數(shù)級(jí)上升。

在電子領(lǐng)域,所有器件都會(huì)在不同程度上產(chǎn)生熱量。器件散發(fā)一定熱量屬于正常現(xiàn)象,但某些類型的缺陷會(huì)增加功耗,進(jìn)而導(dǎo)致發(fā)熱量上升。

在失效分析中,這種額外的熱量能夠?yàn)槎ㄎ蝗毕荼旧硖峁┯杏镁€索。熱紅外顯微鏡可以借助內(nèi)置攝像系統(tǒng)來測(cè)量可見光或近紅外光的實(shí)用技術(shù)。該相機(jī)對(duì)波長(zhǎng)在3至10微米范圍內(nèi)的光子十分敏感,而這些波長(zhǎng)與熱量相對(duì)應(yīng),因此相機(jī)獲取的圖像可轉(zhuǎn)化為被測(cè)器件的熱分布圖。通常,會(huì)先對(duì)斷電狀態(tài)下的樣品器件進(jìn)行熱成像,以此建立基準(zhǔn)線;隨后通電再次成像。得到的圖像直觀呈現(xiàn)了器件的功耗情況,可用于隔離失效問題。許多不同的缺陷在通電時(shí)會(huì)因消耗額外電流而產(chǎn)生過多熱量。例如短路、性能不良的晶體管、損壞的靜電放電保護(hù)二極管等,通過熱紅外顯微鏡觀察時(shí)會(huì)顯現(xiàn)出來,從而使我們能夠精細(xì)定位存在缺陷的損壞部位。 熱紅外顯微鏡結(jié)合自研算法,對(duì)微弱熱信號(hào)進(jìn)行定位分析,鎖定潛在缺陷 。

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致晟光電熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)系列中的 RTTLIT P20 實(shí)時(shí)瞬態(tài)鎖相熱分析系統(tǒng),采用鎖相熱成像(Lock-inThermography)技術(shù),通過調(diào)制電信號(hào)提升特征分辨率與靈敏度,并結(jié)合軟件算法優(yōu)化信噪比,實(shí)現(xiàn)顯微成像下超高靈敏度的熱信號(hào)測(cè)量。RTTLIT P20搭載100Hz高頻深制冷型超高靈敏度顯微熱紅外成像探測(cè)器,測(cè)溫靈敏度達(dá)0.1mK,顯微分辨率低至2μm,具備良好的檢測(cè)靈敏度與測(cè)試效能。該系統(tǒng)重點(diǎn)應(yīng)用于對(duì)測(cè)溫精度和顯微分辨率要求嚴(yán)苛的場(chǎng)景,包括半導(dǎo)體器件、晶圓、集成電路、IGBT、功率模塊、第三代半導(dǎo)體、LED及microLED等的失效分析,是電子集成電路與半導(dǎo)體器件失效分析及缺陷定位領(lǐng)域的關(guān)鍵工具。定位芯片內(nèi)部微短路、漏電、焊點(diǎn)虛接等導(dǎo)致的熱異常點(diǎn)。制冷熱紅外顯微鏡應(yīng)用

熱紅外顯微鏡通過熱成像技術(shù),快速定位 PCB 板上的短路熱點(diǎn) 。國(guó)內(nèi)熱紅外顯微鏡貨源充足

相較于宏觀熱像儀(空間分辨率約50-100μm),熱紅外顯微鏡通過顯微光學(xué)系統(tǒng)將分辨率提升至1-10μm,且支持動(dòng)態(tài)電激勵(lì)與鎖相分析,能深入揭示微觀尺度的熱-電耦合失效機(jī)理。例如,傳統(tǒng)熱像儀能檢測(cè)PCB表面的整體熱分布,而熱紅外顯微鏡可定位某一焊點(diǎn)內(nèi)部的微裂紋導(dǎo)致的局部過熱。技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)當(dāng)前,熱紅外顯微鏡正朝著更高靈敏度(如量子點(diǎn)探測(cè)器提升光子捕捉能力)、多模態(tài)融合(集成EMMI光子探測(cè)、OBIRCH電阻分析)及智能化方向發(fā)展,部分設(shè)備已內(nèi)置AI算法自動(dòng)標(biāo)記異常熱點(diǎn),為半導(dǎo)體良率提升、新能源汽車電驅(qū)系統(tǒng)熱管理等應(yīng)用提供更高效的解決方案。國(guó)內(nèi)熱紅外顯微鏡貨源充足

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