精密環控柜主要由設備主柜體、控制系統、氣流循環系統、潔凈過濾器、制冷(熱)系統、照明系統、局部氣浴等組成，為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環境。該設備內部通過風機引導氣流以一定的方向循環，控制系統對循環氣流的每個環節進行處理，從而使柜內的溫濕度達到超高的控制精度。該系統可實現潔凈度百級、十級、一級，溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密環境控制。自面世以來，已為相關領域客戶提供了穩定的實驗室環境以及監測服務，獲得了眾多好評。針對一些局部溫度波動精度要求比較高的區域，可以采用局部氣浴的控制方式，對局部進行高精密溫控。黑龍江環境預算

數據可視化與便捷管理是設備亮點。設備自動生成數據曲線，如同設備運行 “心電圖”，便于客戶隨時查看設備運行狀態。數據自動保存，可隨時以表格的形式導出，方便客戶進行數據分析和處理。運行狀態、故障狀態等事件同步記錄，查詢一目了然，讓客戶對設備狀態了如指掌。設備采用可拆卸鋁合金框架，大型設備可現場組裝，靈活便捷，減少運輸壓力，方便不同環境使用運行。箱體采用高質量鈑金材質，美觀大方，可根據客戶需求定制外觀顏色，滿足客戶的個性化需求。甘肅三坐標測量儀環境精密環境控制設備依托自主研發的高精密控溫技術，實現了 0.1% 的超高輸出精度。

我司憑借深厚的技術積累，自主研發出高精密控溫技術，精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環境控制。該系統潔凈度可實現百級、十級、一級。關鍵區域 ±5mK（靜態）的溫度穩定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內部溫度規格，為諸如芯片研發這類對溫度極度敏感的項目，打造了近乎完美的溫場環境，保障實驗數據不受溫度干擾。同時，設備內部濕度穩定性可達±0.5%@8h，壓力穩定性可達+/-3Pa，長達 144h 的連續穩定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面，實現百級以上潔凈度控制，工作區潔凈度優于 ISO class3，確保實驗結果的準確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。

在半導體芯片制造這一復雜且精細的領域，從芯片光刻、蝕刻到沉積、封裝等每一步，都對環境條件有著近乎嚴苛的要求，而精密環控柜憑借其性能成為保障生產的關鍵要素。芯片光刻環節，光刻機對環境穩定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動，都可能使光刻機內部的精密光學元件因熱脹冷縮產生細微形變，導致光路偏差，使光刻圖案精度受損。精密環控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動控制在極小范圍，確保光刻機高精度運行，讓芯片光刻圖案正常呈現。如果您的設備需在特定溫濕度、潔凈度實驗室運行，對周圍環境條件有要求，可以選擇精密環控柜。

光刻設備對溫濕度的要求也極高，光源發出的光線需經過一系列復雜的光學系統聚焦到硅片表面特定區域，以實現對光刻膠的曝光，將設計好的電路圖案印制上去。當環境溫度出現極其微小的波動，哪怕只是零點幾攝氏度的變化，光刻機內部的精密光學元件就會因熱脹冷縮特性而產生細微的尺寸改變。這些光學元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會使得光路發生偏差。原本校準、聚焦于硅片特定坐標的光線，就可能因為光路的改變而偏離預定的曝光位置，出現曝光位置的漂移。其控制系統精細處理循環氣流各環節，確保柜內溫濕度的超高精度控制。激光干涉儀環境調控箱

精密環境控制設備內部，關鍵區域靜態下溫度穩定性高，可達 +/-5mK 精度。黑龍江環境預算

芯片的封裝環節同樣對溫濕度條件有著極高的敏感度。封裝作為芯片生產的一道關鍵工序，涉及多種材料的協同作用，包括芯片與基板的連接、外殼的封裝等。在此過程中，溫度的細微起伏會改變材料的物理特性。以熱脹冷縮效應為例，若封裝過程溫度把控不佳，芯片與封裝外殼在后續的使用過程中，由于溫度變化產生不同程度的膨脹或收縮，二者之間極易出現縫隙。這些縫隙不僅破壞芯片的密封性，使外界的水汽、灰塵等雜質有機可乘，入侵芯片內部，影響芯片正常工作，還會削弱芯片與封裝外殼之間的連接穩定性，降低芯片在各類復雜環境下的可靠性。封裝材料大多為高分子聚合物或金屬復合材料，它們對水分有著不同程度的敏感性。高濕度環境下，水分容易被這些材料吸附，導致材料受潮變質，如塑料封裝材料可能出現軟化、變形，金屬材料可能發生氧化腐蝕，進而降低封裝的整體可靠性，嚴重縮短芯片的使用壽命，使芯片在投入使用后不久便出現故障。黑龍江環境預算