而CMP工藝離不開研磨料的發展，那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學腐蝕和機械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤上，拋光時，旋轉的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉的拋光墊上，由亞微米或納米磨粒和化學溶液組成的研磨液在硅片表面和拋光墊之間流動，然后研磨液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下，均勻分布其上，在硅片和拋光墊之間形成一層研磨液液體薄膜。馳光機電過硬的產品質量、完善的售后服務、認真嚴格的企業管理，贏得客戶的信譽。山西高靈敏度納米粒度分析儀價格

一般離心式分析儀的動態范圍為40，但是CPS系統的動態范圍可以超過1000。過去很多需要消耗整夜時間而且低精度的測量，現在可以使用示差沉降法快速測量，而得到高精度的結果。低噪聲光源/檢測頭：CPS納米粒度分析儀的光學系統和電路經過精心設計以降低信號中的噪聲，信噪比通常為50000左右，低噪聲使得系統具有很高的靈敏度，可檢測窄峰的重量通常小于0.01微克，這使得對于微克樣品的常規高精度分析變得可行。CPS系統以合理的價格提供高精度、高動態范圍和高靈敏度的粒度分析解決方案。江西激光粒度粒形分析儀馳光是多層次的團體與管理模式。

技術優勢：CPS系統優良性能的基礎是它先進的示差沉降技術。高轉速：CPS可以支持的較高轉速為24,000轉/分。對于超細顆粒，其分析速度比其它產品快倍。使用速度調節技術，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數小時或更長)的樣品，CPS可以快速得到結果。高精度標定：CPS系統使用已知的標定顆粒進行標定，與美國國家標準和技術研究院(NIST)相兼容的標準保證了分析結果的一致性和精確度。使用內標法，也即把已知標定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結果可以達到±0.25%的精度。

CPS納米粒度分析儀測量參數：粒徑、粒形和濃度；粒徑范圍：0.1-3600μm；濃度范圍：高達109顆粒/cm3(對1μm顆粒)；供樣方式：液體、干粉、表面；系統規格/重量電源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二極管檢測器；全量程的0.3%，小可達0.2μm；同步頻閃光源，亮度和持續時間可調；頻閃率；可達30次/秒。分辨率B&W CCD攝像機。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系統，檢測報告自動生成，符合FDA 21 CFRPART11標準。ISO標準；符合多項ISO方法標準；測量池模塊：液體、乳液/不透明液體、干粉、纖維、磁性顆粒、加熱液體及氣溶膠。公司可靠的質量保證體系和經營管理體系，使產品質量日趨穩定。

系統配有沖洗系統，減少了由于系統污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預處理系統：正確設計和操作樣品調節系統是分析儀成功運行的關鍵。該系統基于現場經驗針對這種復雜的工藝樣品，專門為低維護操作而設計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米，減少了維護量。先進的安全系統，保護分析儀免受高壓影響和防止產品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準，無樣本回收系統。馳光機電與廣大客戶攜手共創碧水藍天。浙江二氧化鈦粒度分析儀廠家

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CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！山西高靈敏度納米粒度分析儀價格

山東馳光機電科技有限公司位于南定鎮億達路38號工業園區1-301室，擁有一支專業的技術團隊。致力于創造***的產品與服務，以誠信、敬業、進取為宗旨，以建馳光產品為目標，努力打造成為同行業中具有影響力的企業。我公司擁有強大的技術實力，多年來一直專注于機電科技領域內的技術開發、技術咨詢、技術服務；機電設備、儀器儀表設計、生產、銷售；閥門、換熱器設備銷售。公司生產銷售分析儀表，引進德國技術和零配件完全原裝進口，高標準生產。產品為濁度分析儀， 色度分析儀，濃度分析儀，水中油分析儀，油中水分析儀，微量水分析儀，適用于壓力比較高 325bar，溫度比較高 240℃的場合。的發展和創新，打造高指標產品和服務。誠實、守信是對企業的經營要求，也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的分析儀，在線監測，在線分析，流量計。