輝光放電質譜（GDMS）技術能夠對金屬材料中的痕量元素進行高靈敏度分析。在輝光放電離子源中，氬離子在電場作用下轟擊金屬樣品表面，使樣品原子濺射出來并離子化，然后通過質譜儀對離子進行質量分析，精確測定痕量元素的種類和含量，檢測限可達 ppb 級甚至更低。在半導體制造、航空航天等對材料純度要求極高的行業，GDMS 痕量元素分析至關重要。例如在半導體硅材料中，痕量雜質元素會嚴重影響半導體器件的性能，通過 GDMS 精確檢測硅材料中的痕量雜質，可嚴格控制材料質量，保障半導體器件的高可靠性和高性能。在航空發動機高溫合金中，痕量元素對合金的高溫性能也有影響，GDMS 分析為合金成分優化提供了關鍵數據。金屬材料的殘余奧氏體含量檢測，分析其對材料性能的影響，優化材料熱處理工藝。GB/T 229

光聲光譜檢測是一種基于光聲效應的無損檢測技術。當調制的光照射到金屬材料表面時，材料吸收光能并轉化為熱能，引起材料表面及周圍介質的溫度周期性變化，進而產生聲波。通過檢測光聲信號的強度和頻率，可獲取材料的成分、結構以及缺陷等信息。在金屬材料的涂層檢測中，光聲光譜可用于測量涂層的厚度、檢測涂層與基體之間的結合質量以及涂層內部的缺陷。在金屬材料的腐蝕檢測中，通過分析光聲信號的變化，可監測腐蝕的發生和發展過程。光聲光譜檢測具有靈敏度高、檢測深度可調、對樣品無損傷等優點，為金屬材料的質量檢測和狀態監測提供了一種新的有效手段。鹽霧試驗金屬材料的彎曲試驗，測試彎曲性能，確定材料可加工性怎么樣。

俄歇電子能譜（AES）專注于金屬材料的表面分析，能夠深入探究材料表面的元素組成、化學狀態以及原子的電子結構。當高能電子束轟擊金屬表面時，原子內層電子被激發產生俄歇電子，通過檢測俄歇電子的能量和強度，可精確確定表面元素種類和含量，其檢測深度通常在幾納米以內。在金屬材料的表面處理工藝研究中，如電鍍、化學鍍、涂層等，AES 可用于分析表面鍍層或涂層的元素分布、厚度均勻性以及與基體的界面結合情況。例如在電子設備的金屬外殼表面處理中，利用 AES 確保涂層具有良好的耐腐蝕性和附著力，同時精確控制涂層成分以滿足電磁屏蔽等功能需求，提升產品的綜合性能和外觀質量。

掃描開爾文探針力顯微鏡（SKPFM）可用于檢測金屬材料的表面電位分布，這對于研究材料的腐蝕傾向、表面電荷分布以及涂層完整性等具有重要意義。通過將一個微小的探針在金屬材料表面上方掃描，利用探針與表面之間的靜電相互作用，測量表面電位的變化。在金屬材料的腐蝕防護研究中，SKPFM 能夠檢測出表面不同區域的電位差異，從而判斷材料表面是否存在腐蝕活性點，評估涂層對金屬基體的防護效果。例如在海洋工程中，對于長期浸泡在海水中的金屬結構，利用 SKPFM 監測表面電位變化，可及時發現涂層破損或腐蝕隱患，采取相應的防護措施，延長金屬結構的使用壽命。火花鑒別法可初步檢測金屬材料成分，觀察火花特征，快速辨別材料類別。

在工業生產中，諸多金屬部件在相互摩擦的工況下運行，如發動機活塞與氣缸壁、機械傳動的齒輪等。摩擦磨損試驗機可模擬這些實際工況，通過精確設定載荷、轉速、摩擦時間以及潤滑條件等參數，對金屬材料進行磨損測試。試驗過程中，實時監測摩擦力的變化，利用高精度稱重設備測量磨損前后材料的質量損失，還可借助顯微鏡觀察磨損表面的微觀形貌。通過這些檢測數據，能深入分析不同金屬材料在特定摩擦條件下的磨損機制，是黏著磨損、磨粒磨損還是疲勞磨損等。這有助于篩選出高耐磨的金屬材料，并優化材料的表面處理工藝，如鍍硬鉻、化學氣相沉積等，提升金屬部件的使用壽命，降低設備的維護成本，保障工業生產的高效穩定運行。金屬材料的熱導率檢測，確定材料傳導熱量的能力，滿足散熱或隔熱需求的材料篩選。WC6沖擊試驗

沖擊試驗檢測金屬材料韌性，在沖擊載荷下看其抗斷裂能力，關乎使用安全。GB/T 229

二次離子質譜（SIMS）能夠對金屬材料進行深度剖析，精確分析材料表面及內部不同深度處的元素組成和同位素分布。該技術通過用高能離子束轟擊金屬樣品表面，使表面原子濺射出來并離子化，然后通過質譜儀對二次離子進行分析。在半導體制造中，對于金屬互連材料，SIMS 可用于檢測金屬薄膜中的雜質分布以及金屬與半導體界面處的元素擴散情況，這對于提高半導體器件的性能和可靠性至關重要。在金屬材料的腐蝕研究中，SIMS 能夠分析腐蝕產物在材料表面和內部的分布，深入了解腐蝕機制，為開發更有效的腐蝕防護方法提供依據。? GB/T 229