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漳州精密工業烤箱

來源: 發布時間:2022-04-16

真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。二、設計特點1、后門設計熱風電機2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的三、技術指標1、使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2、絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;4、加熱元件:石墨加熱棒;5、冷卻方式:氣冷+循環風冷降溫;6、控溫穩定度:2℃,具有PID參數自整定功能;7、爐膛溫度均勻度:5℃(恒溫1500℃);8、氣氛:可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%;9、極限真空:10-3torr級;10、抽氣速率:空載下,30min達到10-2torr11、升溫功率:170kW;12、升溫速率:15℃/min(空載);13、降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘14、腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)工業烤箱如何發揮重要作用?合肥真萍告訴您。漳州精密工業烤箱

一、本產品廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環境適應性與可靠性試驗.二、主要技術指標:1、工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2、溫度波動度:1.0℃(空載);3、溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃4、升降溫速率:升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)降溫方式:水冷降溫5、試驗箱承壓方式:采用內承壓方式6、壓力范圍:常壓~0.0001Pa漳州精密工業烤箱工業烤箱的作用是什么?合肥真萍告訴您。

通過數顯儀表與溫感器的連接來控制溫度,采用熱風循環送風方式,熱風循環系統分為水平式和垂直式。均經精確計算,風源是由送風馬達運轉帶動風輪經由電熱器,將熱風送至風道后進入烘箱工作室,且將使用后的空氣吸入風道成為風源再度循環加熱運用,如此可有效提高溫度均勻性。如箱門使用中被開關,可借此送風循環系統迅速恢復操作狀態溫度值。工業烤箱的熱風循環系統由送風馬達、風輪和電熱器組成,送風馬達帶動風輪送出冷風,冷風經過電熱設備加熱攜帶熱能后經風道進入工業烤箱的烘箱工作室。

工業烤箱為內外雙層結構,殼體為角鋼薄鋼板,內外雙層殼體之間填充有纖維物質。工業烤箱使用的纖維物質多為硅酸鋁,它能起到保溫的作用,形成可靠的保溫層。工業烤箱配置有熱風循環系統及溫度測量與控制系統。工業烤箱在工作時,操作人員通過儀表和感溫器來獲得工業烤箱內部的溫度值,在通過控制系統進行操作。工業烤箱的熱風循環加熱方式,與普通的散熱加熱方式相比,有著更好的氣體流動性,能加快工業烤箱內物料的干燥速度。業烤箱配置有熱風循環系統及溫度測量與控制系統。工業烤箱怎樣挑選比較好?

高溫無氧固化烘箱用途介紹:無氧干燥箱應用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產單位,主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化,模壓固烤、IC(晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別)、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干,電工產品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環境中干燥和老化試驗。1、技術指標與基本配置:1.1使用溫度:RT~260℃,極限溫度:300℃;1.2爐膛腔數:2個,上下布置;1.3爐膛材料:SUS304鏡面不銹鋼;加熱元件:不銹鋼加熱器;熱偶:K分度1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀;2、氧含量(配氧分析儀):2.1高溫狀態氧含量:≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態氧含量:≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩定度:1℃;2.3溫度均勻度:2%℃(260℃平臺);工業烤箱的特點是什么?合肥真萍告訴您。寧波工業烤箱生產廠家

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HMDS預處理系統的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。漳州精密工業烤箱

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