公正地來(lái)講，CVD與PVD相比還有一個(gè)目前普通PVD 技術(shù)難以趕超的優(yōu)勢(shì)，即常用的CVD 涂層材料-三氧化二鋁(Al2O3)。三氧化二鋁有著非常好的物理和化學(xué)穩(wěn)定性，堅(jiān)硬耐磨且成本極低，但由生成工藝上的掣肘使得其很難在普通PVD 上進(jìn)行實(shí)現(xiàn)。當(dāng)然由于PVD 在其它方面的諸多優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)由于其在涂層材料上近年來(lái)的不斷擴(kuò)展，它的性能已經(jīng)在越來(lái)越多的方面逐漸優(yōu)于CVD了。其目前在世界刀具市場(chǎng)上的占有率也從十幾年前的20%~30% 逐步提高到現(xiàn)在超過(guò)50%。另外隨著歐瑞康巴爾查斯在新的PVD涂層技術(shù)上的不斷創(chuàng)新，比如能夠在PVD設(shè)備上實(shí)現(xiàn)類三氧化二鋁的涂層的P3e 以及去年推出的基于HiPIMS的S3P技術(shù)，我們相信歐瑞康巴爾查斯還將一如既往地繼續(xù)帶領(lǐng)PVD涂層的世界潮流。深圳CRN涂層會(huì)不會(huì)掉呢?涂層源頭廠家

刀具涂層的特點(diǎn)：（1）力學(xué)和切削性能好。涂層刀具將基體材料和涂層材料的優(yōu)良性能結(jié)合起來(lái)，既保持了基體良好的韌性和較高的強(qiáng)度，又具有涂層的高硬度、高耐磨性和低摩擦系數(shù)。因此，涂層刀具的切削速度與未涂層的相比，切削速度可提高2~5倍，使用涂層刀具可以獲得明顯的經(jīng)濟(jì)效益。（2）通用性強(qiáng)。涂層刀具通用性廣，加工范圍擴(kuò)大，一種涂層刀具可以代替數(shù)種非涂層刀具使用，因而可以減少刀具的品種和庫(kù)存量，簡(jiǎn)化刀具管理，降低刀具和設(shè)備成本。上海玫瑰金涂層厚度耐高溫涂層加工廠家。

切削刃具如銑刀、鉆頭、鋸片、頂針、絲攻、、絞刀等，經(jīng)真空涂層被覆后，在切削過(guò)程中刀刃部分可以承受高達(dá)800℃高溫仍然保持良好的硬度，同時(shí)刃具表面有了更多的磨損容量和更低的摩擦系數(shù)，因此可以降低切削受力，提高產(chǎn)品表面質(zhì)量及精度。經(jīng)過(guò)納米被涂層覆后不但可以延長(zhǎng)刀具的使用壽命，還可以提高切削參數(shù)，甚至實(shí)現(xiàn)干式切削，除去切削液的使用，保護(hù)了環(huán)境同時(shí)又降低了制造成本。優(yōu)點(diǎn)：大幅提高刀具壽命更加耐高溫，可干式切削提高切削參數(shù)提高生產(chǎn)效率被加工產(chǎn)品質(zhì)量提升。

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ZrN涂層較TiN涂層擁有更好的耐高溫、耐腐蝕、耐磨損性能。李宇恒等研究表明，ZrN的高溫氧化溫度要比TiN高出50℃。張建蘇等研究認(rèn)為，ZrN涂層表面的O置換N形成ZrO2，起到保護(hù)作用，而TiN不易發(fā)生類似反應(yīng)，因此ZrN涂層有更好的耐蝕性。耐磨實(shí)驗(yàn)顯示鍍了TiN涂層和ZrN涂層的鉆頭用于合金鋼板時(shí)比普通鉆頭分別提高壽命5倍和7倍。 由于高速切削和干切削發(fā)展，進(jìn)一步對(duì)刀具材料性能提出了更高的要求，相應(yīng)二元常用涂層TiN也正被性能更優(yōu)異的三元涂層TiAlN所替代。因?yàn)榈毒咄繉有阅芘c其化學(xué)組成有著緊密聯(lián)系，在二元涂層加入其他元素可有效改善涂層性能，如加入Al，Cr可形成致密的Al2O3和Cr2O3膜，可增強(qiáng)涂層抗氧化和耐腐蝕能力；加入Zr，生成ZrO2薄膜，可提高涂層耐磨性；加入Si可細(xì)化晶粒，提高硬度，增強(qiáng)抗化學(xué)擴(kuò)散能力，增強(qiáng)膜基結(jié)合力；加入C可提高硬度，可細(xì)化晶粒，優(yōu)化組織結(jié)構(gòu)。涂層材料成分多元化，成為今后研究趨勢(shì)。深圳防腐蝕涂層加工廠家。昆山鈦硅涂層加工

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磁控濺射：在真空環(huán)境下，通過(guò)電壓和磁場(chǎng)的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對(duì)靶材進(jìn)行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據(jù)使用的電離電源的不同，導(dǎo)體和非導(dǎo)體材料均可作為靶材被濺射。離子束DLC：碳?xì)錃怏w在離子源中被離化成等離子體，在電磁場(chǎng)的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過(guò)調(diào)整加在等離子體上的電壓來(lái)控制。碳?xì)潆x子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結(jié)合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)在于可沉積超薄及多層結(jié)構(gòu)，工藝控制精度可達(dá)幾個(gè)埃，并可將工藝過(guò)程中的顆料污染所帶來(lái)的缺陷降至較小。涂層源頭廠家

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