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宿遷工業烤箱標準

來源: 發布時間:2022-06-13

恒溫恒濕試驗箱的控制系統可說是整個設備的心臟,掌管著制冷、制熱、控濕、循環、控制等大權。  在制冷方面,壓縮機是采用德國進口的壓縮機。制冷系統由高溫部分和低溫部分組成,每一部分是一個相對單獨的制冷系統。高溫部分中制冷劑的蒸發吸收來自低溫部分的制冷劑的熱量而汽化;低溫部分制冷劑的蒸發則從被冷卻的對象(試驗機內的空氣)吸熱以獲取冷量。高溫部分和低溫部分之間是用一個蒸發冷凝器聯系起來,它既是高溫部分的冷凝器,也是低溫部分的冷凝器。  加熱系統采用完全單獨的鎳鉻合金電加熱式,電阻率大、電阻溫度系數小,在高溫下變形小且不易脆化,自身加熱溫度可達1000~1500℃,使用壽命長。  加濕是恒溫恒濕試驗箱不同于高低溫試驗箱的相當主要一部分,恒溫恒濕試驗箱采用外置隔離式,全不銹鋼鍋爐式淺表面蒸發式加濕器。祛濕方式采用機械制冷祛濕,將空氣冷卻到溫度以下,使大于飽和含濕量的水汽凝結析出,這樣就降低了濕度。  送風循環系統:空氣循環系統由耐溫低噪音空調型電機,多葉式離心風輪構成。它提供了試驗機內空氣的循環。工業烤箱哪家便宜?合肥真萍告訴您。宿遷工業烤箱標準

HMDS預處理系統的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。上海工業烤箱銷售價格上海哪家的工業烤箱比較好?

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超高真空烘箱一、本產品廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環境適應性與可靠性試驗.二、主要技術指標:1、工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2、溫度波動度:1.0℃(空載);3、溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃4、升降溫速率:升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)降溫方式:水冷降溫5、試驗箱承壓方式:采用內承壓方式6、壓力范圍:常壓~0.0001Pa宿遷工業烤箱標準

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