單細胞分選需要復(fù)雜的流體動力學(xué)控制結(jié)構(gòu),傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成。Polos 光刻機的分層曝光功能,在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi)。某細胞生物學(xué)實驗室利用該芯片,將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,分選純度達 98%,較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%。該技術(shù)已應(yīng)用于循環(huán)tumor細胞檢測,使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍,相關(guān)設(shè)備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。微流體3D成型:復(fù)雜流道快速曝光,助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā)。上海PSP光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。河南光刻機可以自動聚焦波長快速自動對焦:閉環(huán)對焦系統(tǒng)1秒完成,多層半自動對準(zhǔn)提升實驗效率。
Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加,簡化射頻器件(如IDC電容器)制造流程。研究團隊利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件,驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。其高重復(fù)性(0.1 μm)確保科研成果的可轉(zhuǎn)化性,助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時,Polos 光刻機的亞微米級定位精度(±50nm)確保了圖案的均勻復(fù)制。某光電實驗室使用該設(shè)備,在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列,模板的圖案保真度達 99.8%,邊緣缺陷率低于 0.1%。基于此模板生產(chǎn)的柔性 OLED 背光模組,亮度均勻性提升至 98%,厚度減至 50μm,成功應(yīng)用于下一代折疊屏手機,相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給三家面板制造商。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。Polos-BESM:基礎(chǔ)款高性價比,適合高校實驗室基礎(chǔ)微納加工。
德國 Polos 光刻機系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備。其無掩模激光光刻技術(shù),讓電路圖案曝光不再受限于掩模,能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制。在芯片研發(fā)過程中,Polos 光刻機可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),為芯片性能提升奠定基礎(chǔ)。? 科研團隊使用 Polos 光刻機,成功開發(fā)出更高效的集成電路,降低芯片能耗,提高運算速度。而且,該光刻機可輕松輸入任意圖案,滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計需求。無論是新型傳感器的電路制作,還是微型處理器的研發(fā),Polos 光刻機都能以高精度、低成本的優(yōu)勢,為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障,推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。納 / 微機械:亞微米級結(jié)構(gòu)加工,微型齒輪精度達 ±50nm,推動微機電系統(tǒng)創(chuàng)新。河南光刻機可以自動聚焦波長
跨學(xué)科應(yīng)用:覆蓋微機械、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域。上海PSP光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模
某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導(dǎo)入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉(zhuǎn)染效率達 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細胞treatment中,CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,相關(guān)技術(shù)已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。上海PSP光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模