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江蘇POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

來源: 發(fā)布時間:2025-07-04

單細胞分選需要復(fù)雜的流體動力學(xué)控制結(jié)構(gòu),傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成。Polos 光刻機的分層曝光功能,在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi)。某細胞生物學(xué)實驗室利用該芯片,將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,分選純度達 98%,較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%。該技術(shù)已應(yīng)用于循環(huán)tumor細胞檢測,使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍,相關(guān)設(shè)備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。成本效益:單次曝光成本低于傳統(tǒng)光刻 1/3,小批量研發(fā)更經(jīng)濟。江蘇POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

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Polos系列通過無掩模技術(shù)減少化學(xué)廢料產(chǎn)生,同時低能耗設(shè)計(如固態(tài)激光光源)符合綠色實驗室標(biāo)準(zhǔn)。例如,其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機能耗降低30%,助力科研機構(gòu)實現(xiàn)碳中和目標(biāo)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。吉林德國BEAM光刻機可以自動聚焦波長跨學(xué)科應(yīng)用:覆蓋微機械、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域。

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柔性電子是未來可穿戴設(shè)備的core方向,其電路圖案需適應(yīng)曲面基底。Polos 光刻機的無掩模技術(shù)在聚酰亞胺柔性基板上實現(xiàn)了 2μm 線寬的precise曝光,解決了傳統(tǒng)掩模對準(zhǔn)偏差問題。某柔性電子研究中心利用該設(shè)備,開發(fā)出可貼合皮膚的健康監(jiān)測貼片,其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%。相比光刻膠掩模工藝,Polos 光刻機將打樣時間從 72 小時壓縮至 8 小時,加速了柔性電路的迭代優(yōu)化,推動柔性電子從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化落地。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

植入式神經(jīng)電極需要兼具生物相容性與導(dǎo)電性能,表面微圖案可remarkable影響細胞 - 電極界面。Polos 光刻機在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔,某神經(jīng)工程團隊發(fā)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)使神經(jīng)元突觸密度提升 20%,信號采集噪聲降低 35%。其無掩模特性支持根據(jù)不同腦區(qū)結(jié)構(gòu)定制電極陣列,在大鼠海馬區(qū)電生理實驗中,單神經(jīng)元信號識別率從 60% 提升至 85%,為腦機接口技術(shù)的臨床轉(zhuǎn)化奠定了硬件基礎(chǔ)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。科研成果轉(zhuǎn)化:中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤機制。

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上海有機化學(xué)研究所通過光刻技術(shù)制備多組分納米纖維,實現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地,Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工,為新能源器件(如柔性電池)和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3。設(shè)備的高重復(fù)性(0.1 μm)確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性。掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。無掩模技術(shù)優(yōu)勢:摒棄傳統(tǒng)掩模,圖案實時調(diào)整,研發(fā)成本降低 70%,小批量生產(chǎn)經(jīng)濟性突出。吉林德國BEAM光刻機可以自動聚焦波長

快速自動對焦:閉環(huán)對焦系統(tǒng)1秒完成,多層半自動對準(zhǔn)提升實驗效率。江蘇POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

德國 Polos 光刻機系列的一大突出優(yōu)勢,便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中,創(chuàng)新的設(shè)計理念往往需要快速驗證,而 Polos 光刻機正滿足了這一需求。科研人員無需花費大量時間和成本制作掩模,只需將設(shè)計圖案導(dǎo)入系統(tǒng),就能迅速開始光刻作業(yè)。? 在生物醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域,研究人員利用這一特性,快速制作出具有特殊結(jié)構(gòu)的生物芯片,用于疾病診斷和藥物篩選。在材料科學(xué)研究中,可根據(jù)不同材料特性,定制獨特的圖案結(jié)構(gòu),探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式,remarkable縮短了科研周期,加速科研成果的產(chǎn)出,讓科研人員能夠?qū)⒏嗑ν度氲絼?chuàng)新研究中。江蘇POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

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