可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道,傳統工藝需多次掩模對準,良率only 30%。Polos 光刻機的多材料同步曝光技術,支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道,將良率提升至 85%。某微系統實驗室利用該特性,開發出可實時切換流路的生化分析芯片,通過軟件輸入不同圖案,10 分鐘內即可完成從 DNA 擴增到蛋白質檢測的模塊切換。該成果應用于 POCT 設備,使現場快速檢測系統的體積縮小 60%,檢測時間縮短至傳統方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。多材料兼容:金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成傳感器一步成型。四川德國POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米
單細胞分選需要復雜的流體動力學控制結構,傳統光刻難以實現多尺度結構集成。Polos 光刻機的分層曝光功能,在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區與 50μm 寬的廢液通道,通道高度誤差控制在 ±2% 以內。某細胞生物學實驗室利用該芯片,將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,分選純度達 98%,較傳統流式細胞儀體積縮小 90%。該技術已應用于循環tumor細胞檢測,使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍,相關設備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。北京BEAM-XL光刻機光源波長405微米能源收集:微型壓電收集器效率 35%,低頻振動發電支持無源物聯網。
某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發了集成電化學傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,傳感器的檢測限達 1nM,較傳統電化學工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,可在 24 小時內完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測(POCT)設備,使現場水質監測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,相關設備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。
Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設計,寫入區域達155×155 mm,平臺雙向重復性精度0.1 μm,滿足工業級需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,支持實時觀測與多層對準。配套的BEAM Xplorer軟件簡化了復雜圖案設計流程,內置高性能筆記本電腦實現快速數據處理,成為微機電系統(MEMS)和光子晶體研究的理想工具。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。光刻膠broad兼容:支持AZ5214E、SU-8等材料,優化參數降低側壁粗糙度。
某revolution生物醫學研究機構致力于開發快速、precise的疾病診斷技術。在研發一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發表在國際authority醫學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。用戶案例broad:全球超500家科研機構采用,覆蓋高校、研究所與企業實驗室。黑龍江POLOSBEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
快速自動對焦:閉環對焦系統1秒完成,多層半自動對準提升實驗效率。四川德國POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米
德國 Polos 光刻機系列的一大突出優勢,便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中,創新的設計理念往往需要快速驗證,而 Polos 光刻機正滿足了這一需求。科研人員無需花費大量時間和成本制作掩模,只需將設計圖案導入系統,就能迅速開始光刻作業。? 在生物醫學工程領域,研究人員利用這一特性,快速制作出具有特殊結構的生物芯片,用于疾病診斷和藥物篩選。在材料科學研究中,可根據不同材料特性,定制獨特的圖案結構,探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式,remarkable縮短了科研周期,加速科研成果的產出,讓科研人員能夠將更多精力投入到創新研究中。四川德國POLOS光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米