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來源: 發布時間:2025-07-24

一家專注于再生醫學的科研公司在組織工程支架的研究上,使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結構,以促進細胞的生長和組織的修復。Polos 光刻機能夠根據預先設計的三維模型,在生物可降解材料上精確制造出復雜的孔隙結構和表面圖案。通過該光刻機制造的支架,在動物實驗中表現出優異的細胞黏附和組織生長引導能力。與傳統制造方法相比,使用 Polos 光刻機生產的支架,細胞在其上的增殖速度提高了 50%,為組織工程和再生醫學的臨床應用提供了有力支持。德國技術基因:融合精密光學與自動化控制,確保設備高穩定性與長壽命。浙江PSP光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

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某能源研究團隊采用 Polos 光刻機制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉換效率達 35%,在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環境振動,在智能穿戴設備中實現了運動能量的實時采集與存儲。其輕量化設計(體積 < 1mm3)還被用于物聯網傳感器節點,使傳感器續航時間從 3 個月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。河南PSP光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸微型傳感器量產:80 μm開環諧振器加工能力,推動工業級MEMS傳感器升級。

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在航空航天科研中,某科研團隊致力于研發用于環境監測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機械部件是關鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術,助力團隊制造出尺寸precise、質量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結構。例如,利用該光刻機制造的微型齒輪,齒距精度達到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統的效率和穩定性。基于此,科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續航時間和飛行靈活性遠超同類產品,為未來微型飛行器在復雜環境下的應用奠定了堅實基礎。

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某材料科學研究中心在探索新型納米復合材料的性能時,需要在材料表面構建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機成為實現這一目標的得力工具。研究人員利用其無掩模激光光刻技術,在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結構。經過測試發現,帶有特定圖案的納米復合材料,其電學、光學和力學性能發生了remarkable改變。例如,一種原本光學性能普通的納米材料,在經過 Polos 光刻機處理后,對特定波長光的吸收率提高了 30%,為開發新型光電器件和光學傳感器提供了新的材料選擇和設計思路 。生物界面創新:微納結構可控加工,為組織工程提供新型仿生材料解決方案。安徽POLOSBEAM-XL光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

能源收集:微型壓電收集器效率 35%,低頻振動發電支持無源物聯網。浙江PSP光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

Polos-BESM支持GDS文件直接導入和多層曝光疊加,簡化射頻器件(如IDC電容器)制造流程。研究團隊利用類似設備成功制備高頻電路元件,驗證了其在5G通信和物聯網硬件中的潛力。其高重復性(0.1 μm)確保科研成果的可轉化性,助力國產芯片產業鏈突破技術封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。浙江PSP光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

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