Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。了解更多無掩膜光刻的技術和產品信息，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。高精度無掩膜光刻3D光刻

Nanoscribe公司成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經過十幾年的不斷研究和成長，已然成為微納米生產的帶領者，一直致力于推動諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。如今，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統。這些大學包含哈佛大學、加州理工學院、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯邦理工學院等等。為了拓展并加強中國及亞太地區的銷售推廣和售后服務范圍，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司。自Nanoscribe進軍中國市場以來，已有20多家出名大學和研究所成為了Nanoscribe用戶，其中包括多所C9前列高校聯盟成員，例如：北京大學，復旦大學，南京大學等等。廣東2GL無掩膜光刻微納加工系統想要了解雙光子無掩模光刻技術在微納醫學中的應用，請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開，在微流控研究中，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法。亞琛工業大學（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架，以推動細胞培養和組織工程學。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就，并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中，布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學的研究團隊3D打印了一個超小型單纖光鑷，以實現集成微納光學系統。連接處理是光子集成研究的挑戰。正如明斯特大學（WWU）研究人員所示，Nanoscribe微納加工技術正在驅動研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法。麻省理工學院（MIT）的科學家們正在使用Nanoscribe的2PP技術制造用于高密度集成光子學的光學自由形式耦合器。

作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。“我們為我們擁有特別先進的2PP技術而感到自豪，憑借我們的技術支持，我們的客戶實現了一個又一個突破性創新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯合創始人兼首席執行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道。想要了解更多Nanoscribe 3D無掩膜光刻系統信息，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產3D微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機。浙江高分辨率無掩膜光刻

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德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(MEMS)應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構，在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”高精度無掩膜光刻3D光刻

納糯三維科技（上海）有限公司是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司，納糯三維科技（上海）有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發，技術轉讓，技術咨詢，技術服務，三維打印設備，光電機一體化設備和相關零配件的批發，進出口，傭金代理，并提供相關配套服務，貿易信息咨詢，企業管理咨詢。的公司，是一家集研發、設計、生產和銷售為一體的專業化公司。納糯三維深耕行業多年，始終以客戶的需求為向導，為客戶提供***的PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統，雙光子微納光刻系統。納糯三維繼續堅定不移地走高質量發展道路，既要實現基本面穩定增長，又要聚焦關鍵領域，實現轉型再突破。納糯三維始終關注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力，實現與客戶的成長共贏。