由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。這項技術具有快速、精確和可定制的特點。重慶超高速Nanoscribe微機械

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。北京高精度NanoscribeMEMS更多有關增材制造的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

作為基于雙光子聚合技術（ 2PP） 的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe 在全球 30 多個國家擁有各科領域的客戶群體。 “我們為我們擁有特別先進的 2PP 技術而感到自豪，憑借我們的技術支持，我們的客戶實現了一個又一個突破性創新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優于市場地位的關鍵” Nanoscribe 聯合創始人兼首席執行官 Martin Hermatschweiler 表示。基于2PP 微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。 “我們非常期待加入 CELLINK 集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”Martin Hermatschweiler 說道

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現具有特定光子，機械，生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術在制造業中的特點與應用。

Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術、微光學等工業微加工相關項目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業帶領機構一起開發頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年，名為Miliquant，由德國聯邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助。他們的研發成果——3D打印光源組件，將用于量子技術創新，并可以應用在醫療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發團隊將開展多項實驗，開發工業傳感器和成像系統，這就需要復雜的研發工作，還需要開發可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。更多有關3D微納加工的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司。重慶進口Nanoscribe上海

Nanoscribe的技術能夠實現微米級別的精確打印，為科學研究和工業應用提供了全新的可能性。重慶超高速Nanoscribe微機械

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。重慶超高速Nanoscribe微機械