Nanoscribe，基于雙光子聚合（2PP）原理的3D微納加工的先驅品牌，致力于為各行業提供高效、精密的增材制造解決方案。NanoscribePhotonicProfessional打印系統是Nanoscribe的旗艦產品系列，其獨特的2PP技術可以實現微米級別的精度和高度復雜性的結構，是目前市場上**的3D微納加工設備之一。與其他3D打印技術相比，NanoscribePhotonicProfessional具有更高的精度和更大的自由度，可以制造出極其細致的結構和復雜的幾何形狀。這一特點使得Nanoscribe在微納電子、生物醫學、光電子等領域有著***的應用。用戶可以使用NanoscribePhotonicProfessional快速打印出高質量的微米級別的器件和樣品，**提高了研究和生產的效率和質量。金屬3D打印技術具有廣闊的應用前景。湖北雙光子增材制造PPGT2

  增材制造（AM）是近年來特別熱門和相當有**性的制造工藝之一。這種新型制造工藝只要把設計輸入機器里，然后把功能部件從機器的另一邊取出來即可，這種想法以前出現在上一代人的科幻小說里，雖然現在我們仍離《星際迷航》電影里那樣復制人類的技術還很遙遠，但我們正在縮小這個差距。塑料、橡膠、陶瓷、油墨、貴金屬和一些特殊合金材料，每天都在不同的行業中被制造及應用，其應用領域非常廣，包括普通玩具、模具，甚至到人體部位等。現在這一切都可以利用3D打印（增材制造）技術打印出來。Nanoscribe公司作為精密之傲高精度3D打印系統制造商，于2018年在中國成立了分公司，加強了德國高科技公司在中國銷售活動，完善了整個亞太地區的客戶服務范圍。湖北高分辨率增材制造3D微納加工增材制造輪的生產流程也具有很高的靈活性。

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點

Nanoscribe 將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求更多增材制造的信息，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。增材制造輪可以通過增加材料的密度和強度來提高承載能力。湖南生物工程增材制造PPGT

納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術發展趨勢和應用。湖北雙光子增材制造PPGT2

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高湖北雙光子增材制造PPGT2