3D打印高性能增材制造技術擺脫了模具制造這一明顯延長研發時間的關鍵技術環節，兼顧高精度、高性能、高柔性，可以快速制造結構十分復雜的零件，為先進科研事業速研發提供了有力的技術手段。在微光學領域，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復雜的工作流程，克服了長期的設計限制，并實現了先進的微光驅動的前所未有的應用。 換句話說，Photonic Professional GT系列與您的平均3D打印機不同，因此可用于創建在其他機器上無法生產的功能性光學產品。該系列與正確的材料和工藝相結合，據稱允許用戶“直接制造具有比標準制造方法，高形狀精度和光學平滑表面幾何約束的聚合物微光學部件”。增材制造技術正在推動制造業的數字化轉型和創新。山東德國增材制造

借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。Nanoscribe增材制造無掩膜光刻增材制造可實現復雜結構的快速制造。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。金屬3D打印技術具有廣闊的應用前景。

   3D打印高性能增材制造技術擺脫了模具制造這一明顯延長研發時間的關鍵技術環節，兼顧高精度、高性能、高柔性，可以快速制造結構十分復雜的零件，為先進科研事業速研發提供了有力的技術手段。在微光學領域，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復雜的工作流程，克服了長期的設計限制，并實現了先進的微光驅動的前所未有的應用。 換句話說，Photonic Professional GT系列與您的平均3D打印機不同，因此可用于創建在其他機器上無法生產的功能性光學產品。該系列與正確的材料和工藝相結合，據稱允許用戶“直接制造具有比標準制造方法，高形狀精度和光學平滑表面幾何約束的聚合物微光學部件”。3D打印機還縮短了設計迭代階段，允許用戶在“短短幾天”內將想法轉化為功能原型增材制造輪的生產流程也具有很高的靈活性。Nanoscribe增材制造無掩膜光刻

想要了解增材制造和傳統減材制造的區別，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。山東德國增材制造

   Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。山東德國增材制造