Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術。上海工業級灰度光刻技術

2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。江蘇2GL灰度光刻激光直寫通過控制光的幅度和相位，灰度光刻技術可以制備各種復雜的微納米結構，滿足不同應用領域的需求。

傳感器對可控技術的重要性，在眾多領域都是顯而易見的，無論是從簡單的家用電器，還是到可穿戴設備，甚至到航空應用，只有控制良好的流程才有被優化的可能。理想的傳感器應該具有高敏感度，不易故障，并且易于集成到流程中等優點。光纖端面的微型傳感器在這個方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小，可以輕松多路復用，并且不需要額外的外部能源供應。對于這些基于光纖的傳感器的加工，雙光子聚合技術已被證明是其完美的搭檔。事實上，任何設計模型都能在微觀尺寸上被實現。然而，大多數設計都是靜態的，打印出來的部件在被加工出來后不能進行進一步的活動。

Quantum X shape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。通過系統集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工。

Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。了解更多關于灰度光刻技術各種應用，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。江蘇2GL灰度光刻激光直寫

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