Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭  Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術在制造業中的特點與應用。湖南工業級Nanoscribe中國

Nanoscribe獨有的體素調諧技術2GL®可以在確保優越的打印質量的同時兼顧打印速度，實現自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖，實現在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的。其動態體素調整需要相對較少的打印層次，即可實現具有光學級別、光滑以及納米結構表面打印結果。這意味著在滿足苛刻的打印質量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統。2GL®作為市場上快的增材制造技術，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優越打印質量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統都高出10到60倍。湖南微納米NanoscribeQuantum X shapeNanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。

基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技術，具備體素動態控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時，調制曝光劑量會改變光敏樹脂內的體素大小，從而實現對聚合體素尺寸的精細可控變化。這是激光功率調制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結果。為此，將灰度圖像轉換為曝光級別的空間變化，從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優勢？ 雙光子灰度光刻 技術（2GL®）使用激光束調制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調節，從而實現光學質量表面結構。通過高精度定位單元和自校準程序，可在拼接相鄰打印區域時以出色準確性進行打印，以制造大型結構。2GL動態調整打印場邊界處的激光劑量，以補償光敏聚合物的化學誘導收縮和定位缺陷。通過這種功能組合，可以在幾平方厘米的區域內打印出真正的無縫結構，消除所有拼接痕跡。

   全新的NanoscribeQuantumX系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現了低成本的微納加工。憑借著獨有的產品優勢Nanoscribe新發布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創新獎。

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作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用

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Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。 湖南工業級Nanoscribe中國