Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。微納3D打印的精度能達到細觀、微觀和納觀（即十億分之一米）級別。上海科研3D打印微納加工系統

這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。德國2PP3D打印系統在工業制造領域，3D打印技術用于制造復雜的機械部件和定制的工業設備。

光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不光可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。

微納米3D打印技術的發展離不開創新和合作。各大科研機構和制造企業紛紛投入研發，推動技術的不斷突破和進步。然而，微納米3D打印技術也面臨一些挑戰。首先是材料選擇的問題，目前可用于微納米3D打印的材料種類有限，需要進一步研發和改進。其次是成本的問題，微納米3D打印設備和材料的價格較高，限制了其在大規模生產中的應用。盡管存在一些挑戰，但微納米3D打印技術的前景依然廣闊。隨著技術的不斷進步和成本的降低，相信微納米3D打印技術將會在未來的制造業中發揮越來越重要的作用，為我們帶來更多的創新和機遇。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀你一起探討3D打印產業分析。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。歡迎咨詢在科研領域,Nanoscribe 的系列3D打印設備幫助推動著微納光學，微機電系統等等領域的研究和發展。山東德國3D打印三維光刻

無需機械加工或任何模具，能直接從計算機圖形數據中生成任何形狀的零件。上海科研3D打印微納加工系統

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產品，名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學研究還是制作工業手板，這款產品都能滿足您的需求。它不僅高效，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應用領域，極大地節省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學研究或工業生產中得到更好的效果，3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節省時間和精力，讓您專注于更重要的事情。立即購買，體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧！上海科研3D打印微納加工系統