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天津雙光子灰度光刻設備

來源: 發布時間:2024-08-11

將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度特別高。Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。灰度光刻技術可以相當于二元套刻的多次曝光,提高了光刻效率。天津雙光子灰度光刻設備

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NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統具備了A2PL®對準雙光子光刻技術,可實現在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®在實現優異的打印質量同時兼顧打印速度,適用于微光學制造和光子封裝領域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現實時動態調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,不產生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。黑龍江2PP灰度光刻微納加工系統灰度光刻技術作為一種新型的光刻技術,具有突破傳統光刻技術的優勢。

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Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創始人開發出一種技術,對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,甚至利用他們的技術來開發創新的設備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。“納米標記系統基于雙光子吸收,這是一種分子被激發到更高能態的過程。

Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創作工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司灰度光刻技術具有廣泛的應用領域。

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Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,擁有卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經過十幾年的不斷研究和成長,Nanoscribe已成為微納米生產的先驅和3D打印市場的帶領者,推動著諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統,在充分滿足設計自由的同時,一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,達到所見即所得。。想要了解Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備。上海Nanoscribe灰度光刻系統

靈活性高:由于無需制作實體掩膜版,無掩膜光刻技術可以快速地更改光刻圖案,方便進行試制和修改。天津雙光子灰度光刻設備

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,不光是微透鏡陣列結構(如下圖5所示),該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,對于雙光子聚合的微結構,我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作,并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透,而某些區域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)天津雙光子灰度光刻設備

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