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重慶微納米Nanoscribe中國分公司

來源: 發布時間:2024-08-24

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領域的先驅和市場領導我們是您在微加工系統、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司,是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團的一部分。憑借成熟穩定的系統、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案,我們的3000多名系統用戶正在致力于研究改變未來的應用。Nanoscribe的用戶群體中,有科學研究和工業的創新者,包括生命科學、微光學、光子學、材料工程、微流體、微力學和MEMS。他們優越的創新現已發表在1300多份同行評議期刊上。更多有關高精度三維光刻的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。重慶微納米Nanoscribe中國分公司

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德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發商,也是 BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D 打印機,用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱,新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產品線,其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統 (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構,在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”


四川科研Nanoscribe上海通過Nanoscribe技術,我們可以實現微觀世界的精密控制和制造。

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3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現具有特定光子,機械,生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。 

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭       Nanoscribe是德國高精度增材制造系統的先驅。

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光學元件如何對準并打印到光子芯片上?打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件,智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征,以確定芯片上波導的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設置到波導的出口,使其光軸和方向完美對準。 根據該坐標系打印的光學元件可確保好的光學質量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項技術可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe的2PP技術可用于構造包含不同規模結構的聚合物母版。海南微納米Nanoscribe

Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備具有極大設計自由度的特點。重慶微納米Nanoscribe中國分公司

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL ®)系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。   重慶微納米Nanoscribe中國分公司

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