作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微細加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。“我們為我們擁有特別先進的2PP技術而感到自豪,憑借我們的技術支持,我們的客戶實現了一個又一個突破性創新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯合創始人兼首席執行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術方面的專業知識,Nanoscribe為前列科學研究和工業創新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道3D打印技術可以制造出傳統制造方法難以加工的復雜幾何形狀、內部結構和空隙結構,實現了設計師的無限創意。江蘇雙光子聚合3D打印無掩膜光刻
售后支持和服務擁有超過14年的微加工技術經驗,我們的技術支持團隊努力在短的時間內為客戶提供好的支持。在德國總部,中國分公司和美國分公司,以及通過Nanoscribe認證的經銷商提供的銷售服務和技術支持。我們的跨學科和多語言技術支持團隊為客戶提供各方面的支持:裝機、維護和維修現場和線上的培訓課程通過NanoGuide綜合自助服務平臺自助查詢電話、電子郵件和設備自帶遠程支持功能基礎操作技巧之外的高階技術和應用支持延長維修保修合同、升級服務、移機服務江蘇雙光子聚合3D打印無掩膜光刻隨著3D打印技術的不斷進步,微納3D打印的出現,完美的解決了這個問題。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業,并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。Nanoscribe是微納加工和3D打印領域的帶領者。
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。3D打印技術無需傳統的刀具、夾具、機床或模具等工具,降低了制造成本和復雜度。遼寧微納光刻3D打印無掩膜激光直寫
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為了進一步提升技術先進性,科研人員又在新材料研發的過程中發現了巨大的潛力。一方面,利用SCRIBE新技術的情況下,高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結構的光學性能的調節度。另一方面,低自發熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發熒光的IP-Visio已經為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)江蘇雙光子聚合3D打印無掩膜光刻