Nanoscribe稱，Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作納米尺度結構制造，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。浙江進口Nanoscribe多少錢

作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用?！?nbsp;海南微納Nanoscribe子公司更多有關雙光子聚合技術和產品咨詢，歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造公司，一直致力于開發和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現具有特定光子，機械，生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。 快速原型制作，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技術，具備體素動態控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時，調制曝光劑量會改變光敏樹脂內的體素大小，從而實現對聚合體素尺寸的精細可控變化。這是激光功率調制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結果。為此，將灰度圖像轉換為曝光級別的空間變化，從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優勢？ 雙光子灰度光刻 技術（2GL®）使用激光束調制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調節，從而實現光學質量表面結構。通過高精度定位單元和自校準程序，可在拼接相鄰打印區域時以出色準確性進行打印，以制造大型結構。2GL動態調整打印場邊界處的激光劑量，以補償光敏聚合物的化學誘導收縮和定位缺陷。通過這種功能組合，可以在幾平方厘米的區域內打印出真正的無縫結構，消除所有拼接痕跡。多組柱狀體3D復雜微結構支架是用Nanoscribe自行研發的IP-Dip光刻膠進行3D打印。浙江雙光子NanoscribePhotonic Professional GT

使用Nanoscribe的3D打印系統，德國科學家們一起研發了由管道相連接的多組柱狀體3D復雜微結構支架。浙江進口Nanoscribe多少錢

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。 Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統的標配。浙江進口Nanoscribe多少錢