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廣東亞微米雙光子聚合三維光刻

來源: 發布時間:2025-07-20

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業,并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的。廣東亞微米雙光子聚合三維光刻

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。


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    雙光子聚合技術是一種高精度、高效率的微納加工技術,具有以下優勢特點:高精度和高分辨率:雙光子聚合技術可以實現亞微米甚至納米級的分辨率,使得制造出的微納結構更加精細。這是因為它利用雙光子吸收過程,將激光束聚焦到非常小的體積內,從而實現了高精度的加工。三維加工能力:由于雙光子聚合技術可以在聚合物體積內部進行光刻,因此可以實現復雜的三維結構制造,如微型光學元件、微流體芯片等。這一特點使得它在微納制造領域具有廣泛的應用前景。無需光掩膜:傳統的光刻技術需要使用光掩膜進行圖案轉移,而雙光子聚合技術可以直接通過計算機控制激光束的位置和強度來實現圖案的制造,無需光掩膜。這不僅降低了制造成本,還縮短了制造周期。材料多樣性:雙光子聚合技術可以使用各種不同類型的光敏樹脂作為加工材料,從而可以制造出各種不同性質和功能的微納結構。這為微納制造提供了更多的選擇和靈活性。高效加工速度:雙光子聚合技術具有較高的加工速度,可以在短時間內制造出復雜的三維結構。這使得它在工業生產中具有較高的效率和競爭力。易于控制和修改:雙光子聚合的加工環境和參數易于控制,可以輕松修改得到所需的結構。

QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格,從而實現亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。通過系統集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監控及多用戶的使用配置,實現推動工業標準化及基于晶圓批量效率生產Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討國內在雙光子聚合技術的發展趨勢。

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QuantumXshape技術特點概要:快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工程流程;工業驗證的晶圓級批量生產;200個標準結構的通宵產量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。歡迎咨詢。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化。廣東亞微米雙光子聚合三維光刻

Nanoscribe雙光子聚合技術具有高設計自由度和高精度。廣東亞微米雙光子聚合三維光刻

Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造專家,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展廣東亞微米雙光子聚合三維光刻

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