Nanoscribe基于雙光子聚合技術的3D打印技術為構建具有自由形狀和復雜特征的零件提供了極大的自由度,可直接根據CAD模型制造成品。若以傳統方式來制造這些設計復雜的零件,則顯得非常不切實際,甚至根本不可能完成。增材制造技術制造的零件往往更輕、更高效且能夠更好地發揮工作性能。然而,這并不是說這種靈活性能夠讓我們隨心所欲地設計任何想要的形狀,至少在成本的約束下,我們也不可能做到這一點。Nanoscribe所具備的納米標記系統基于雙光子吸收,這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度比較高。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。實驗室增材制造QX
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。上海TPP增材制造微納加工系統增材制造相比傳統減材制造更加的節省原料,也更加的節約能源。
采用增材制造技術的情況下,導管的設計空間得以提升,例如可以設計為擁有螺旋形狀的結構,可以將導管橫截面設計為多邊形,也可以在部件內集成多個導管,至少一個可具有圓形橫截面,還可以再導管內表面上制造一組凸起的表面特征,這組凸起的表面特征可以延伸到導管的內部區域中。與傳統設計及制造方式相比,3D打印導管可以設計為復雜的形狀、輪廓和橫截面,這是使用常規減法制造技術(例如,鉆孔)無法實現的。在設計時可以將冷卻部件設計成更接近理想的幾何形狀,從而改進流體系統的熱性能。
Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構,包括光子集成電路,光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點增材制造輪的生產過程可以在短時間內完成。
Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。增材制造有助于提高制造效率和降低成本。江蘇工業級增材制造Quantum X shape
增材制造技術正在改變產品的設計和生產方式。實驗室增材制造QX
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高實驗室增材制造QX