超高速灰度光刻技術是一項帶領科技發展的重大突破，為我們帶來了無限可能。這項技術的出現，將徹底改變我們對光刻的認知，為各行各業帶來了巨大的創新機遇。超高速灰度光刻技術主要是利用高能激光束對材料進行精確的刻蝕，從而實現微米級甚至納米級的精細加工。相比傳統的光刻技術，超高速灰度光刻技術具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時間內完成更復雜的加工任務，提高了生產效率。超高速灰度光刻技術在電子、光電子、生物醫藥等領域具有廣泛的應用前景。在電子領域，它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板，推動電子產品的迭代升級。在光電子領域，它可以用于制造高精度的光學元件，提高光學設備的性能。在生物醫藥領域，它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器，實現更精確的醫學診斷。灰度光刻技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合。2PP灰度光刻激光直寫

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。廣東2PP灰度光刻微納加工系統Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點。

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。更多雙光子灰度光刻技術，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。灰度光刻技術具有高精度、高效率的特點。江蘇進口灰度光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解微納3D打印和灰度光刻技術的區別。2PP灰度光刻激光直寫

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。2PP灰度光刻激光直寫