在計算成像領域中有一個重要的分支，即光場成像。而光場成像中的中心光學元件，即為微透鏡陣列。其材質為透明玻璃，表面刻有很多微小的透鏡，組成陣列結構，用來成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法，但該方法存在著各種各樣的問題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設計時需通過掩膜板圖形確定，無法自由調節，且成本高，周期長。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術。重慶超高速灰度光刻無掩光刻

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創作工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司吉林灰度光刻激光直寫Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統Quantum X。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX，并榮獲創新獎。該系統是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。

Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。通過控制光的幅度和相位，灰度光刻技術可以制備各種復雜的微納米結構，滿足不同應用領域的需求。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲?；叶裙饪碳夹g可用于制造復雜掩膜版。上海超高速灰度光刻技術

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。重慶超高速灰度光刻無掩光刻