隨著下游新能源汽車、充電樁、光伏、5G基站等領域的爆發，了對第三代半導體——碳化硅材料襯底、外延與器件方面的巨大市場需求，國內眾多企業紛紛通過加強技術研發與資本投入布局碳化硅產業，我們首先來探討一下碳化硅襯底的國產化進程。碳化硅分為立方相（閃鋅礦結構）、六方相（纖鋅礦結構）和菱方相3大類共 260多種結構，目前只有六方相中的 4H-SiC、6H-SiC才有商業價值。另碳化硅根據電學性能的不同主要可分為高電阻（電阻率 ≥105Ω·cm）的半絕緣型碳化硅襯底和低電阻（電阻率區間為 15~30mΩ·cm）的導電型碳化硅襯底，滿足不同功能芯片需求如何區分碳化硅襯底的的質量好壞。led碳化硅襯底導電

    降低碳化硅襯底的成本的三個方法：1）做大尺寸：襯底的尺寸越大，邊緣的浪費就越小，有利于進一步降低芯片的成本。6英寸襯底面積為4英寸襯底的，相同的晶體制備時間內襯底面積的倍數提升帶來襯底成本的大幅降低，與此同時，單片襯底上制備的芯片數量隨著襯底尺寸增大而增多，單位芯片的成本也即隨之降低。2）提高材料使用效率：由于技術限制，長晶時間很難縮短，而單位時間內長晶越厚成本越低，因此可以設法增加晶錠厚度；另一方面，目前的切割工藝很容易造成浪費，可以通過激光切割或其他技術手段減少切割損耗。3）提高良率：以山東天岳為例，碳化硅襯底產品良率逐年提升，綜合良率由30%提升至38%，國內廠商良率情況普遍在40%左右，若能提升至60%-70%，碳化硅襯底生產成本將得到進一步下降。 浙江4寸sic碳化硅襯底蘇州質量好的碳化硅襯底的公司。

相同規格的碳化硅基MOSFET與硅基MOSFET相比，其尺寸可大幅減小至原來的1/10，導通電阻可至少降低至原來的1/100。相同規格的碳化硅基MOSFET較硅基IGBT的總能量損耗可降低70%。碳化硅功率器件具有高電壓、大電流、高溫、高頻率、低損耗等獨特優勢，將極大提高現有使用硅基功率器件的能源轉換效率，未來將主要應用領域有電動汽車/充電樁、光伏新能源、軌道交通、智能電網等。市場空間：據 Yole 統計，2020 年 SiC 碳化硅功率器件市場規模約 7.1 億美元，預計 2026 年將增長至 45 億美元，2020-2026 年 CAGR 近 36%。其中，新能源汽車是 SiC 功率器件下游重要的應用市場,預計需求于 2023 年開始快速爆發。

碳化硅(SiC)由于其獨特的物理及電子特性，在一些應用上成為比較好的半導體材料:短波長光電元件，高溫，抗幅射以及高頻大功率元件，由于碳化硅的寬能級，以其制成的電子元件可在極高溫下工作，可以抵受的電壓或電場八倍于硅或砷化鎵，特別適用于制造高壓大功率元件如高壓二極體。碳化硅是熱的良導體，導熱特性優于任何其他半導體材料。碳化硅優良的特性使其在工業和上有很大的應用范圍。并且，為降低器件成本，下游產業對SiC單晶襯底提出了大尺寸的要求，目前國際市場上已有6英寸（150毫米）產品，預計市場份額將逐年增大。當前世界上研發碳化硅器件的主要有美國、德國、瑞士、日本等國家，但直到現在碳化硅的工業應用主要是作為磨料(金剛砂)使用。瑞士ABB曾經一度成功開發出碳化硅二極管，然而在2002年，由于工藝困難、前景不明，ABB終止了碳化硅項目，可見研發難度之大。半導體碳化硅襯底及芯片的重要戰略價值，使其始終穩居美國商務部的禁運名單，這也導致我國很難從國外獲得相應產品。碳化硅襯底公司的聯系方式。

    碳化硅襯底材料是新的一代半導體材料，其應用領域具有較強的戰略意義。中國正逐步成長為全球寬禁帶半導體材料生產的主要競爭市場之一。碳化硅襯底短期內依然會面臨制備難度大、成本高昂的挑戰，目前碳化硅功率器件的價格仍數倍于硅基器件，下游應用領域仍需平衡碳化硅器件的高價格與因碳化硅器件的優越性能帶來的綜合成本下降之間的關系。碳化硅半導體主要應用于以5G通信、**、航空航天為的射頻領域和以新能源汽車、“新基建”為的電力電子領域，在民用、領域均具有明確且可觀的市場前景作者：見微數據鏈接：源：雪球著作權歸作者所有。商業轉載請聯系作者獲得授權，非商業轉載請注明出處。風險提示：本文所提到的觀點只個人的意見，所涉及標的不作推薦，據此買賣，風險自負。 碳化硅襯底的類別一般有哪些？鄭州4寸n型碳化硅襯底

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碳化硅（SiC）半導體器件在航空、航天探測、核能開發、衛星、石油和地熱鉆井勘探、汽車發動機等高溫（350～500oC）和抗輻射領域具有重要應用；          高頻、高功率的碳化硅（SiC）器件在雷達、通信和廣播電視領域具有重要的應用前景；（目前航天和下屬的四家院所已有兩家開始使用，訂貨1億/年，另兩家還在進行測試，在航天宇航碳化硅器件是不可取代的，可以抵御太空中強大的射線輻射及巨大的差，在核戰或強電磁干擾作用的時候，碳化硅電子器件的耐受能力遠遠強于硅基器件，雷達、通信方面有重要作用led碳化硅襯底導電

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