高介電材料鈦酸鍶鋇化學機械拋光用的納米拋光液:一種用于半導體器件中高介電常數介電材料鈦酸鍶鋇(BaxSr1-xTiO3,BST)化學機械拋光(CMP)的納米拋光液。該CMP納米拋光液包含有納米研磨料、螯合劑、pH調節劑、表面活性劑、消泡劑、殺菌劑及溶劑等。該拋光液損傷少、易清洗、不腐蝕設備、不污染環境,主要用于新一代高密度存儲器(DRAM)電容器介電材料及CMOS場效應管的柵介質——高介電常數介電材料鈦酸鍶鋇的全局平坦化。利用上述納米拋光液采用化學機械拋光方法平坦化高介電常數介電材料鈦酸鍶鋇,拋光后表面的粗糙度降至0.8nm以下,拋光速率達200～300nm/min;拋光后表面全局平坦度高,損傷較少,是制備超高密度動態存儲器(DRAM)及CMOS場效應管時高介電材料平坦化的一***拋光液。本公司銷售的氧化鋁拋光液低VOC配方，使用過程避免粉塵產生，關注環保和人體健康安全?。山東中性拋光液

在化學機械拋光中運用的氧化鋁磨料，常選用硬度大、性能安穩、不溶于水、不溶于酸堿的納米α-Al2O3。作為化學機械拋光磨料，氧化鋁顆粒的巨細、形狀、粒度散布都影響拋光效果。在LED行業，CMP拋光液中常選用粒徑50～200nm、粒徑散布均勻的納米α-Al2O3。近年來對α-Al2O3磨料顆粒的研討主要會集在納米級球形顆粒的制備上。常見制備辦法有以下幾種。固相法。其間的硫酸鋁銨熱解法、改進拜爾法、法等是比較老練的制備辦法。固相法制備超細粉體的流程簡單，無需溶劑，產率較高，但生成的粉體易發作聚會，且粒度不易操控，難以得到散布均勻的小粒徑的高質量納米粉體。北京拋光液非結晶***拋光液具有弱堿性，經過拋光方法與外表形成反應層，柔軟的***去除反應層，可得到高質量的外表。

    研磨拋光液是不同于固結磨具，涂附磨具的另一類“磨具”，磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨，拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序，行業中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。研磨拋光液分類編輯研磨液按其作用機理分：機械作用研磨液，化學機械作用研磨液。機械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過添加分散劑等方式分散到液體介質中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實現工件的研磨、減薄。根據磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設備穩定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機械作用的研磨液一般用于粗磨，后續還需要精密研磨拋光。

    化學機械作用研磨液：化學機械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現高質量的拋光表面，是機械削磨和化學腐蝕的組合技術，它借助超微粒子的研磨作用和化學腐蝕作用在被研磨的介質表面形成光潔平坦表面。所以化學機械作用研磨液又稱為化學機械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對于拋光墊作相對運動，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機結合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。化學機械拋光液（CMP）根據磨料不同的分類：二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。金剛石研磨液根據磨料不同的分類：金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。 本公司銷售的氧化硅拋光液高純度(Cu2+含量小于50?ppb)，有效減小對電子類產品的沾污。

    金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品超過原有的光澤。本產品性能穩定、***，對環境無污染等作用，光液使用方法：包括棘輪扳手、開口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產品經過研磨以后，再使用拋光劑配合振動研磨光飾機，滾桶式研磨光式機進行拋光；1拋光劑投放量為（根據不同產品的大小，光飾機的大小和各公司的產品光亮度要求進行適當配置），2：拋光時間：根據產品的狀態來定。3、拋光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。CMP拋光液中常選用粒徑50～200 nm、粒徑散布均勻的納米α-Al2O3。杭州中性拋光液規格

氧化硅拋光液用于多種材料納米級的高平坦化拋光。山東中性拋光液

化學機械拋光液 

1、化學機械拋光液概念  化學機械拋光液是在利用化學機械拋光技術對半導體材料進行加工過程中的一種研磨液體，由于拋光液是CMP的關鍵要素之一，它的性能直接影響拋 光后表面的質量，因此它也成為半導體制造中的重要的、必不缺少的輔助材料。  

2、化學機械拋光液的組成  化學機械拋光液的組成一般包括一般由超細固體粒子研磨劑（如納米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性劑、穩定劑、氧化劑等。固體粒子提供研磨作用,化學氧化劑提供腐蝕溶解作用，由于SiO2粒子去除率比較高,得到的表面質量比較好，因此在硅片拋光加工中主要采用SiO2拋光液，  

3、化學機械拋光液的分類  拋光工藝中有粗拋光和精拋光之分，故有粗拋光液和精拋光液品種之分。  

4、CMP過程中對拋光液性能的要求  拋光液的濃度、磨粒的種類、大小、形狀及濃度、拋光液的粘度、pH值、流速、流動途徑對去除速度都有影響。 山東中性拋光液

蘇州豪麥瑞材料科技有限公司坐落在蘇州市工業園區唯華路3號君地商務廣場5棟602室，是一家專業的蘇州豪麥瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半導體行業從業多年的專業團隊所組成，專注于半導體技術和資源的發展與整合，現以進口碳化硅晶圓，供應切割、研磨及拋光等相關制程的材料與加工設備，氧化鋁研磨球，氧化鋯研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，拋光液。公司。一批專業的技術團隊，是實現企業戰略目標的基礎，是企業持續發展的動力。公司以誠信為本，業務領域涵蓋陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，拋光液，我們本著對客戶負責，對員工負責，更是對公司發展負責的態度，爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，拋光液，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。