顆粒物污染環(huán)保水基清洗劑的選擇在水基清洗劑的清洗工藝中，對所采用的清洗劑品種的選擇是十分重要的，因為清洗劑品種不同，其性能會有較大的差異，所以需采用的清洗條件應有所不同，為此，必須對清洗劑進行選擇，一般選擇清洗劑應遵循如下幾個原則。根據(jù)被清洗零件的材質(zhì)及下道工序的不同進行選擇。1、若清洗對象只含有單一金屬，則應選擇對該金屬有效的水基清洗劑。2、若清洗對象含有多種金屬的組合件，則應選擇對這些金屬都有效的清洗劑。3、主要指標，是在保證清洗干凈的前提下，使水基清洗劑的pH值滿足所清洗金屬的適應范圍。4、被清洗零件的下道工序?qū)η逑磩┑闹笜艘笫遣幌嗤?。若下道工序需要噴漆，則需選用清洗能力高、漂洗性能好、不含無機鹽的清洗劑，同時還應保證殘留的微量清洗劑對漆層的性能無不良影響。5、若下道工序是表面處理和熱處理，則不僅需要選擇漂洗性好，而且要求清洗劑不具有防銹性，否則金屬表面會生成一層鈍化膜，而影響表面處理和熱處理的質(zhì)量。6、若零件清洗后是直接裝配或封存的，則要求清洗劑具有良好的防銹性。 不同清洗劑介紹說明。上海圓晶清洗劑推薦

3.樹脂、松香系列助焊劑

因為水洗制程實在是太麻煩了，而且也不是所有的電子零件都可以進行水洗，比如蜂鳴器(buzzer)、鈕扣電池(coin battery)、彈簧頂針連接器(pogo pin)就不建議進行水洗。

后來有人將松香加入到了助焊劑中取代原本的酸性清潔劑，也可以起到一定程度輕易氧化物的功效，但是松香為單體時，化學活性較弱，對促進焊料的潤濕往往不夠充分，因此實用上需要添加少量的活性劑，以提高它的活性。松香還有一個特性，就是松香在固態(tài)時呈非活性，只有變成液態(tài)時才呈活性，其熔點約為127℃，而活性則可以持續(xù)到315℃的溫度。目前無鉛錫焊的適宜溫度為240～250℃，剛好處于松香的活性溫度范圍內(nèi)，且它的焊接殘留物不存在腐蝕問題，這些特性使松香為非腐蝕性焊劑而被廣泛應用于電子設備的焊接中。

IPC-J-STD-004依據(jù)助焊劑成份定義了四大助焊劑：有機(OR)、無機(IN)、松香(RO)、樹脂(RE)。 淮安陶瓷封裝清洗劑介紹晶圓清洗劑優(yōu)缺點分析。

"支持的客觀證據(jù)應是測試數(shù)據(jù)或其他文件——證明實際硬件的性能在使用環(huán)境的預期條件下沒有受到不利影響。這可能包括：

1、表面絕緣阻抗測試(SIR)，可能與離子色譜測試相結合，以證明殘留物可接受水平。但是這里并沒有說明具體的SIR值應該是多少。我將根據(jù)歷史數(shù)據(jù)提供一些可能的SIR值，以此說明當遵循常見的工藝控制時，會期望得到的結果。

2、歷史記錄——包括現(xiàn)場退貨、保修服務記錄和故障分析，證明交付的產(chǎn)品上的離子和其他殘留物沒有引起使用中的故障。

3、通電時，在模擬終端產(chǎn)品使用環(huán)境的極端溫度和濕度條件下的電氣測試結果。應該對電氣故障進行故障分析，以確定是否由離子或其他殘留物導致故障?？稍诋a(chǎn)品認證或出廠驗收測試期間進行該測試。工藝認證應當包括對返工工藝的認證。

    在電子產(chǎn)品生產(chǎn)制程中，幾乎所有參與產(chǎn)品制造的金屬元素，都會釋入出各種金屬顆粒和金屬化合物，形成銨（Amonium）、鈣（Calcium）、鋰（Lithium）、鎂（Magnesium）、鉀（Potassium）、鈉（Sodium）等陽離子，另外還殘留有大量的“酸性離子”，如氯離子(Chloride)、溴離子（Bromide）、弱有機酸離子（WOA）、硫酸鹽離子（Sulfate）、Flux（助焊劑）等各式酸性負離子，這些由陽離子和負離子組成的污染物都屬于極性污染物。其中金屬顆粒物和陽離子里面的金屬離子超標，很容易造成電子元器件絕緣降低，電容值飄移和電信號干擾，甚至造成電子線路直接短路，此外，活性較強的金屬顆粒物和金屬陽離子，還會置換掉一些組成電子電路導電物質(zhì)里活性較低的貴金屬給置換出來，造成電子電路的性能下降。 市面上比較常見的清洗劑。

    為了保障產(chǎn)品的良率及性能，在電子產(chǎn)品制造過程中需將表面的各種污染物控制在工藝要求的范圍之內(nèi)。除制造過程都必須在嚴格控制的凈化環(huán)境中開展外，同時還需要評估在進行每一步工序前產(chǎn)品表面特征是否滿足該工序的要求?，F(xiàn)階段，芯片技術節(jié)點不斷提升，從55nm、40nm、28nm至14nm、7nm及以下，電子產(chǎn)品表面污染物的控制要求越來越高，在功能性加工工序前都需要一步清洗工序。根據(jù)清洗的介質(zhì)不同，清洗技術可以分為濕法清洗和干法清洗兩種。濕法清洗是指利用溶液、酸堿、表面活性劑、水及其混合物等液體，通過腐蝕、溶解、化學反應等方法，使產(chǎn)品表面的雜質(zhì)與清洗劑發(fā)生化學反應或界面反應，氧化、蝕刻和溶解產(chǎn)品表面污染物、有機物、金屬及其離子污染物，生成可溶性物質(zhì)、氣體或直接脫落，以獲得滿足潔凈度要求的產(chǎn)品。 哪里有晶圓清洗劑賣？浙江半水基型清洗劑怎么樣

蘇州生產(chǎn)IGBT清洗劑的廠家。上海圓晶清洗劑推薦

    根據(jù)電子制造業(yè)長期以來的品質(zhì)管控數(shù)據(jù)統(tǒng)計結果來看，整個生產(chǎn)制造過程中，約有50%~70%的品質(zhì)不良，都是由產(chǎn)品被污染所致。早在上世紀七十年代，電子制造業(yè)就有了專門針對金屬及其離子污染的“ROSE——電阻率的溶劑萃取法”檢測標準。清洗作業(yè)是目前去除產(chǎn)品污染有效方式，因此從半導體芯片制造、封裝，到后面的PCAB封裝環(huán)節(jié)，幾乎每完成一道加工工序，都緊接著會有一道清洗作業(yè)。如清洗步驟數(shù)量是芯片制造工藝步驟占比比較大的工序，約占所有芯片制造工序步驟的30%以上。伴隨半導體制造技術節(jié)點的進步，清洗工序的數(shù)量和重要性將繼續(xù)提高。在半導體芯片工藝技術節(jié)點進入28nm、14nm以及更先進等級后，工藝流程的延長且越趨復雜，產(chǎn)線成品率也會隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個原因就是先進制程對雜質(zhì)污染物的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟，以及采用清洗效率更高的水基型清洗技術。每個晶片在整個制造過程中需要甚至超過200道清洗步驟，晶圓清洗變得更加復雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。 上海圓晶清洗劑推薦

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