具體實(shí)施方式為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進(jìn)行的步驟：1)反應(yīng)性濺鍍制備強(qiáng)化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強(qiáng)化膜；比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率提高了6％～10％。河北AM1太陽光譜模擬

以AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜作為吸收層，成功構(gòu)建了AgAl-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。在氮?dú)鈿夥障陆?jīng)500℃退火1002 h，其太陽光譜吸收率穩(wěn)定在95%左右，400℃紅外發(fā)射率約在10-11%，如圖1所示（Advanced Materials Interfaces 2016, 3, 1600248）。   目前國內(nèi)外研究人員積極開發(fā)基于熔融鹽（如60% KNO3+40% NaNO3）熱工質(zhì)的高溫太陽能熱發(fā)電系統(tǒng)，其工作溫度常在550℃以上，客觀上對(duì)太陽光譜選擇性吸收涂層提出了更為苛刻的要求，如何獲得600℃下具備優(yōu)異熱穩(wěn)定性的太陽光譜選擇性吸收涂層是亟需攻克的難題之一。此外，海南代理太陽光譜模擬公司基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例。

在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟6)中，靶材為硅靶，氬氣流量為50～500sccm，氧氣流量為50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度為60～200nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。本申請(qǐng)中，sccm為體積流量單位，意義為標(biāo)況毫升/分鐘。本申請(qǐng)?zhí)峁┑哪幽軌蜻x擇性吸收太陽光譜，其中的原理是：太陽輻射到地球上的絕大部分能量，來源于0.20～3.0μm波長范圍的紫外線、可見光和紅外線，這個(gè)波長范圍內(nèi)的能量占地球外太陽輻射總能量的98.07％；而熱輻射的波長范圍主要集中在2.5～30μm。光譜選擇性吸收涂層是應(yīng)用在吸熱體上的，它就是利用太陽輻射的波長范圍(主要集中在0.20～3.0μm)與熱輻射的波長范圍不相同這一特性，可以增強(qiáng)吸熱體對(duì)太陽輻射吸收的同時(shí)，減少吸熱體向環(huán)境的熱輻射損失。選擇性涂層材料的比較大特點(diǎn)在于，它們對(duì)不同光譜區(qū)的輻射具有不同的熱輻射性質(zhì)。

1)反應(yīng)性濺鍍制備強(qiáng)化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強(qiáng)化膜；步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片；步驟1)中，靶材為鉻靶，功率為9kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為120sccm，氧氣流量為80sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為70nm；膜厚是根據(jù)工藝要求可調(diào)整的；2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強(qiáng)化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜。

推薦的，步驟3)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氮?dú)饬髁繛?0～100sccm，制得的緩沖膜的厚度為30～150nm。推薦的，步驟4)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～500sccm，氮?dú)饬髁繛?0～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的過渡膜的厚度為30～100nm。推薦的，步驟5)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的吸收膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟6)中，靶材為硅靶，氬氣流量為50～500sccm，氧氣流量為50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度為60～200nm。推薦的，步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。以往使用的化學(xué)鍍膜，對(duì)環(huán)境污染大，而且對(duì)太陽熱能的吸收不好。黑龍江AM1太陽光譜模擬公司

由于在濺鍍化合物薄膜時(shí)，若直接以化合物當(dāng)作靶材，則所濺鍍出來的薄膜會(huì)與靶材成份有所差別。河北AM1太陽光譜模擬

6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。河北AM1太陽光譜模擬

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司辦公設(shè)施齊全，辦公環(huán)境優(yōu)越，為員工打造良好的辦公環(huán)境。在昊躍光學(xué)近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌HYO等。公司以用心服務(wù)為重點(diǎn)價(jià)值，希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力，將光學(xué)鏡頭、天文望遠(yuǎn)鏡及配件的研發(fā)、組裝、銷售及相關(guān)技術(shù)服務(wù)；戶外用品的開發(fā)及銷售。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)）許可項(xiàng)目：貨物進(jìn)出口；進(jìn)出口代理；技術(shù)進(jìn)出口（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)，具體經(jīng)營項(xiàng)目以審批結(jié)果為準(zhǔn)）一般項(xiàng)目：光學(xué)玻璃銷售；照相機(jī)及器材銷售；教學(xué)儀器銷售；光學(xué)儀器銷售；玻璃儀器銷售；燈具銷售；半導(dǎo)體照明器件銷售（除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外，憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動(dòng)）等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底。誠實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡。