膠態(tài)量子點具有兩大優(yōu)勢。首先是更廉價，因為它們降低了每瓦電力產(chǎn)生的成本，但更主要的優(yōu)勢在于，只需簡單改變量子點的大小，就能改變吸收光譜。大小容易改變且可調(diào)諧是等離子材料的屬性：通過改變等離子粒子的大小，研究人員就能將這兩種重要納米粒子的吸收和散射光譜重疊起來。   薩金特研究小組通過將金納米殼直接嵌入量子點吸收膜提高了太陽能電池的效率，他們下一步將尋找利用更廉價的金屬來達成相同的目標。美國加州大學納米系統(tǒng)研究所所長保羅·維斯認為，該項研究的重要性在于展示了通過調(diào)節(jié)納米粒子特性以提高太陽能電池效率的潛力。相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。湖南下打光太陽光譜模擬報價

4)反應(yīng)性濺鍍制備過渡膜：在第四真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻，反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜；步驟4)中，靶材為鉻靶，功率為15kw，電壓為510v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為90sccm，氮氣流量為70sccm，氧氣流量為50sccm，制得的過渡膜的厚度為70nm；5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；山東代理太陽光譜模擬銷量對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例。

6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強化膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。

獲取模塊310，用于獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。***計算模塊320，用于根據(jù)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度。第二計算模塊330，用于根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像的太陽總輻照強度。第三計算模塊340，用于針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像，計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值，得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像之間的太陽光照補償值。在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應(yīng)生成氧化鉻。

可選地，根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度，包括：根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學遙感圖像中每個像素對應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度；根據(jù)拍攝日期，計算拍攝日期對應(yīng)的太陽赤緯角及大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度；根據(jù)拍攝時刻和地理經(jīng)度，計算拍攝時刻的太陽時角；根據(jù)太陽赤緯角、太陽時角和地理緯度，計算拍攝時刻的太陽高度角；根據(jù)太陽高度角和拍攝位置高程，計算相對大氣光學質(zhì)量；根據(jù)相對大氣光學質(zhì)量，計算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計算散射輻射大氣透明度系數(shù)；根據(jù)大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽直接輻射強度；根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度。為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例。湖北生產(chǎn)太陽光譜模擬AM1.5

撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟。湖南下打光太陽光譜模擬報價

在本申請的一個實施例中，步驟6)中，靶材為硅靶，氬氣流量為50～500sccm，氧氣流量為50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度為60～200nm。在本申請的一個實施例中，步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。本申請中，sccm為體積流量單位，意義為標況毫升/分鐘。本申請?zhí)峁┑哪幽軌蜻x擇性吸收太陽光譜，其中的原理是：太陽輻射到地球上的絕大部分能量，來源于0.20～3.0μm波長范圍的紫外線、可見光和紅外線，這個波長范圍內(nèi)的能量占地球外太陽輻射總能量的98.07％；而熱輻射的波長范圍主要集中在2.5～30μm。光譜選擇性吸收涂層是應(yīng)用在吸熱體上的，它就是利用太陽輻射的波長范圍(主要集中在0.20～3.0μm)與熱輻射的波長范圍不相同這一特性，可以增強吸熱體對太陽輻射吸收的同時，減少吸熱體向環(huán)境的熱輻射損失。選擇性涂層材料的比較大特點在于，它們對不同光譜區(qū)的輻射具有不同的熱輻射性質(zhì)。湖南下打光太陽光譜模擬報價

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