獲取模塊310，用于獲取地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。***計算模塊320，用于根據遙感圖像尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛星光學遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度。第二計算模塊330，用于根據太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度，計算地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的太陽總輻照強度。第三計算模塊340，用于針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應的地球靜止軌道衛星光學遙感圖像，計算各自對應的太陽總輻照強度相互之間的差值，得到各個地球靜止軌道衛星光學遙感圖像之間的太陽光照補償值。在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻。陜西購買太陽光譜模擬

可選地，根據散射輻射大氣透明度系數和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度，包括：根據，計算太陽散射輻射強度es(α，z)，k2為常系數，取值范圍通常為0.6≤k2≤0.9。(三)有益效果本發明提供一種太陽光照補償值計算方法，至少包括以下有益效果：通過地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的尺寸、地理經度區間、地理緯度區間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算拍攝時刻的太陽赤緯角、太陽時角、太陽高度角、太陽輻射強度、大氣光學質量、直射輻射大氣透明度系數、直接輻射強度、散射輻射大氣透明度系數、散射輻射強度、太陽總輻照強度，實現對于不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛星光學遙感圖像的太陽光照補償值計算，并且計算復雜度低，運行速度快，算法簡單，易于工程實現。陜西購買太陽光譜模擬以往使用的化學鍍膜，對環境污染大，而且對太陽熱能的吸收不好。

在本實施例一可行的方式中，根據計算坐標為(x，y)的像素點對應的地理經度l(x)。根據計算坐標為(x，y)的像素點對應的地理緯度b(y)；其中，(b0，l0)為坐標值(0，0)為的像素點對應的地理坐標。s22，根據拍攝日期，計算拍攝日期對應的太陽赤緯角和大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度。在本實施例一可行的方式中，可根據計算太陽赤緯角。根據計算大氣層上界垂直入射時，太陽輻射強度。其中，d表示計算拍攝日期在一年中所處的天數，即將每年的一月一日當做***天。δ(d)為太陽赤緯角，e(d)為太陽輻射強度。

膠態量子點具有兩大優勢。首先是更廉價，因為它們降低了每瓦電力產生的成本，但更主要的優勢在于，只需簡單改變量子點的大小，就能改變吸收光譜。大小容易改變且可調諧是等離子材料的屬性：通過改變等離子粒子的大小，研究人員就能將這兩種重要納米粒子的吸收和散射光譜重疊起來。   薩金特研究小組通過將金納米殼直接嵌入量子點吸收膜提高了太陽能電池的效率，他們下一步將尋找利用更廉價的金屬來達成相同的目標。美國加州大學納米系統研究所所長保羅·維斯認為，該項研究的重要性在于展示了通過調節納米粒子特性以提高太陽能電池效率的潛力。本發明實施例的目的在于提供一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法。

第五計算單元325，用于根據太陽高度角和所述拍攝位置高程，計算相對大氣光學質量；第六計算單元326，用于根據相對大氣光學質量，計算直射輻射大氣透明度系數，并根據直射輻射大氣透明度系數，計算散射輻射大氣透明度系數；第七計算單元327，用于根據大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、所述直射輻射大氣透明度系數和太陽高度角，計算所述太陽直接輻射強度；第八計算單元328，用于根據散射輻射大氣透明度系數和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度。需要說明的是，裝置部分的實施例方式與方法部分的實施例方式對應類似，具體細節請參照方法實施例部分，在此不再贅述。在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發生化學反應生成氧化鉻。山東AM1.5太陽光譜模擬銷量

為使本發明實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本發明實施例。陜西購買太陽光譜模擬

6)反應性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發生化學反應生成二氧化硅，反應生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強化膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發射率膜的厚度為180～220nm。陜西購買太陽光譜模擬

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