中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產品的高溫燒結、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統配置。一、熱工系統1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區個數1個7.控溫點數2點8.熱偶K分度9.控溫穩定度1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度6℃（恒溫800℃,1h）二、冷卻系統1.冷卻結構無2.產品降溫隨爐降溫3.安全保護4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護5.設備安全升溫速率≤5℃/min試驗箱在社會上的重要性。杭州高低溫試驗箱

真空干燥箱是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕，使工作室內形成真空狀態，降低水的沸點，加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空干燥箱的特點。1.長方體工作室，增加有效容積，微電腦溫度控制器，精確控溫。2.雙層玻璃視窗觀察工作室內物體，一目了然。3.箱體閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內高真空度。4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產品經久耐用。5.儲存、加熱、試驗和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環境里進行，所以不會氧化。6.真空程序分段控制，該型號機型，抽真空過程可提供程序化編程，根據客戶要求編輯設定真空值，保壓時間值。可實現多段抽真空和保壓編程。試驗箱圖片上海哪家的試驗箱比較好？

本篇介紹專業全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜主要應用于防止晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，防止探針卡潮濕及氧化，防止光罩的受潮---黃光部封裝的金線，液防止晶的受潮，以及防止線路板受潮。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜的氮氣監控系統。1.溫濕度記錄功能：1.2內建內存，可儲存溫度/濕度，收集時間1~240分鐘可自行設定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設計，有助于內部記錄追蹤并可支持數據庫檔案格式。2.濕度警報系統：2.1可設定啟動警報的濕度值及條件，內配蜂鳴器（90分貝）及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能：內建校正功能，確保顯示準確度。合肥真萍告訴您使用試驗箱的便捷性。

恒溫恒濕箱試驗箱是航空、汽車、家電、科研等領域必備的檢測設備，用于測試電子、電工及其它產品及材料進行高溫、低溫、交變濕熱度或恒定試驗的溫度環境變化參數及性能。該系列產品適用于航空航天產品、信息電子儀器儀表、材料、電工、電子產品、各種電子元氣件在高低溫或濕熱環境下、檢驗其各項性能指標。下面為大家介紹一下真萍科技的恒溫恒濕試驗箱的控制特點。試驗箱的控制系統可說是整個設備的心臟，掌管著制冷、制熱、控濕、循環、控制等大權。在制冷方面，壓縮機是采用德國進口的壓縮機。制冷系統由高溫部分和低溫部分組成，每一部分是一個相對單獨的制冷系統。高溫部分中制冷劑的蒸發吸收來自低溫部分的制冷劑的熱量而汽化；低溫部分制冷劑的蒸發則從被冷卻的對象(試驗機內的空氣)吸熱以獲取冷量。高溫部分和低溫部分之間是用一個蒸發冷凝器聯系起來，它既是高溫部分的冷凝器，也是低溫部分的冷凝器。加熱系統采用完全單獨的鎳鉻合金電加熱式，電阻率大、電阻溫度系數小，在高溫下變形小且不易脆化，自身加熱溫度可達1000～1500℃，使用壽命長。試驗箱怎樣挑選比較好?大型試驗箱的工廠

試驗箱常見的用途有哪些？合肥真萍告訴您。杭州高低溫試驗箱

超高真空烘箱被廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位，以確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術指標。1.工作室溫度范圍：常溫～+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度：±1.0℃（空載）；3.溫度偏差：常壓溫度試驗：常溫～200℃時±2℃200～300℃時±5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時±2.0℃，100℃～200℃時±5.0℃200℃～300℃時±7.0℃杭州高低溫試驗箱

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