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高低溫高壓試驗(yàn)箱

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-04-05

超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動(dòng)度:1.0℃(空載);3.溫度偏差:常壓溫度試驗(yàn):常溫~200℃時(shí)2℃200~300℃時(shí)5.0℃低氣壓高溫綜合試驗(yàn):≤100℃時(shí)2.0℃,100℃~200℃時(shí)5.0℃200℃~300℃時(shí)7.0℃試驗(yàn)箱哪家便宜?合肥真萍告訴您。高低溫高壓試驗(yàn)箱

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理,下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個(gè)數(shù)1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù)2點(diǎn)8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度6℃(恒溫800℃,1h)二、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報(bào)警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報(bào)警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min北京大試驗(yàn)箱上海哪家的試驗(yàn)箱比較好?

真空烘箱是將干燥物料處于負(fù)壓條件下進(jìn)行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。它是利用真空泵進(jìn)行抽氣抽濕,使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài),降低水的沸點(diǎn),加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點(diǎn)。1.長方體工作室,使有效容積達(dá)到相當(dāng)大,微電腦溫度控制器,精確控溫。2.鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體,一目了然。3.箱體閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成,確保產(chǎn)品經(jīng)久耐用。5.儲存、加熱、試驗(yàn)和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環(huán)境里進(jìn)行,所以不會(huì)氧化。6.相當(dāng)短加熱時(shí)間,與傳統(tǒng)干燥烘箱比加熱時(shí)間減少50%以上。真空烘箱因?yàn)槭怯呻娏μ峁崮埽鴿竦奈锲肥菚?huì)導(dǎo)電的,故在使用上宜小心不要有漏電的現(xiàn)象發(fā)生,故一般烘箱都要接地使用,以保安全。若沒有地線也要確認(rèn)烘箱沒有漏電的現(xiàn)象;若有輕微的漏電現(xiàn)象,可試著將插座拔起后將插腳以相反方向再插入,若沒有漏電現(xiàn)象可小心使用,若仍有漏電現(xiàn)象則應(yīng)立即停用。

超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,以確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動(dòng)度:±1.0℃(空載);3.溫度偏差:常壓溫度試驗(yàn):常溫~200℃時(shí)±2℃200~300℃時(shí)±5.0℃低氣壓高溫綜合試驗(yàn):≤100℃時(shí)±2.0℃,100℃~200℃時(shí)±5.0℃200℃~300℃時(shí)±7.0℃試驗(yàn)箱怎樣使用?合肥真萍告訴您。

本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。合肥真萍告訴您使用試驗(yàn)箱的便捷性。天津小型試驗(yàn)箱

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下面為大家介紹一下全自動(dòng)HMDS真空烤箱的整機(jī)尺寸、真空腔體尺寸。1.內(nèi)膽尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架:2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃溫度波動(dòng)度:0.5℃4.真空泵:油泵或無油真空泵。真空度:133pa,5.加熱方式:腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為外置加熱板(防止一側(cè)加熱使的HMDS液進(jìn)入箱體內(nèi)不能完本轉(zhuǎn)成氣態(tài))6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片;6寸晶圓片;8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設(shè)定來降低process時(shí)間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按產(chǎn)品所需而定烘烤時(shí)間),為正常工作周期不含降溫時(shí)間(因降溫時(shí)間為常規(guī)降溫)。高低溫高壓試驗(yàn)箱

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