主要優(yōu)勢:細分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同
技術(shù)積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,分辨率達3μm,適用于MEMS傳感器、光學器件等領(lǐng)域,填補了國內(nèi)空白。
技術(shù)壁壘:掌握光刻膠主要原材料(如樹脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達PPT級,金屬離子含量低于0.1ppb,良率超99%。
產(chǎn)品多元化與技術(shù)化布局
產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導體錫膏等,形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如:
? LCD光刻膠:適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),與京東方、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產(chǎn)品,良率提升至98%。
? 半導體錫膏:供應華為、OPPO等企業(yè),年采購量超200噸,用于5G手機主板封裝。
技術(shù)化延伸:計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā),目標進入中芯國際、長江存儲供應鏈。
質(zhì)量控制與生產(chǎn)能力
通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認證,生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理,原材料采用美、德、日進口高質(zhì)量材料。擁有全自動化生產(chǎn)線,年產(chǎn)能達2000噸(光刻膠及配套材料),支持大規(guī)模訂單交付。
正性光刻膠的工藝和應用場景。大連高溫光刻膠國產(chǎn)廠家
以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動,吉田半導體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),搶占行業(yè)制高點。布局下一代光刻技術(shù)。
面對極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn),吉田半導體與中科院合作開發(fā)化學放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm2)和耐蝕性(>80%)指標上取得階段性進展。同時,公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),對標日本王子控股技術(shù),探索生物基材料在半導體封裝中的應用。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。西安水油光刻膠品牌光刻膠是有什么東西?
不同光刻膠類型的適用場景對比
類型 波長范圍 分辨率 典型應用產(chǎn)品
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導體JT-100系列
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導體YK-300系列
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED電極圖案化 國際主流:JSR ARF系列
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進制程、3D NAND堆疊 研發(fā)中(吉田半導體合作攻關(guān))
水性光刻膠 全波長適配 5-50μm 柔性顯示、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導體WT-200系列
總結(jié):多領(lǐng)域滲透的“工業(yè)維生素”
光刻膠的應用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè),從半導體芯片的“納米級雕刻”到PCB的“毫米級線路”,再到顯示面板的“色彩精細控制”,其技術(shù)參數(shù)(分辨率、耐蝕刻性、靈敏度)需根據(jù)場景設(shè)計。隨著**新能源(車規(guī)芯片、光伏)、新型顯示(Micro LED)、先進制造(納米壓印)**等領(lǐng)域的發(fā)展,光刻膠的應用邊界將持續(xù)擴展,成為支撐制造的關(guān)鍵材料。
吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝
自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。
針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導體自主研發(fā) SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性,已應用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝,不采用國外材料,成本較進口產(chǎn)品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐。
耐高溫光刻膠 JT-2000,250℃環(huán)境穩(wěn)定運行,圖形保真度超 95%,用于納米結(jié)構(gòu)制造!
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求。
UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,耐強酸強堿,耐高溫達 250°C,長期可靠性高,粘接強度高,重量 100g。適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝,如半導體器件制造。
其他光刻膠
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水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點,重量 1L。
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水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,具備上述通用優(yōu)勢,應用場景。
水性感光膠推薦吉田 JT-1200,精細網(wǎng)點+易操作性!無錫油性光刻膠多少錢
負性光刻膠的工藝和應用場景。大連高溫光刻膠國產(chǎn)廠家
吉田半導體 JT-3001 厚板光刻膠:歐盟 RoHS 認證,PCB 電路板制造
憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性,吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。
吉田半導體推出的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認證,采用無鹵無鉛配方,符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率,確保復雜線路圖形的成型,已應用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持,助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率。
大連高溫光刻膠國產(chǎn)廠家