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云南厚膜光刻膠價格

來源: 發(fā)布時間:2025-07-09

吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈:

  • 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際、長江存儲,支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
  • 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
  • 新能源領(lǐng)域:無鹵無鉛焊片通過 UL 認證,批量應(yīng)用于寧德時代儲能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。
  • 研發(fā)投入:年研發(fā)費用占比超 15%,承擔(dān)國家 02 專項課題,獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”。
  • 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
  • 質(zhì)量體系:通過 ISO9001、IATF 16949 等認證,生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,批次穩(wěn)定性達 99.5%。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,目標(biāo)在 2027 年前實現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時,深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻 “吉田力量”。
從突破國際壟斷到行業(yè)標(biāo)準,吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,走出了一條中國半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路。未來,公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù),助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
負性光刻膠曝光后形成不溶結(jié)構(gòu),適用于平板顯示等對厚度要求較高的場景。云南厚膜光刻膠價格

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主要應(yīng)用場景

 印刷電路板(PCB):

? 通孔/線路加工:負性膠厚度可達20-50μm,耐堿性蝕刻液(如氯化鐵、堿性氯化銅),適合制作大尺寸線路(線寬/線距≥50μm),如雙面板、多層板的外層電路。

? 阻焊層:作為絕緣保護層,覆蓋非焊盤區(qū)域,需厚膠(50-100μm)和高耐焊接溫度(260℃以上),負性膠因工藝簡單、成本低而廣泛應(yīng)用。

 微機電系統(tǒng)(MEMS):

? 深硅蝕刻(DRIE):負性膠作為蝕刻掩膜,厚度可達100μm以上,耐SF?等強腐蝕性氣體,用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)(深寬比>20:1)。

? 模具制造:在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,利用負性膠的厚膠成型能力。

 平板顯示(LCD):

? 彩色濾光片(CF)基板預(yù)處理:在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層,耐濕法蝕刻(如HF溶液),確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布。

 功率半導(dǎo)體與分立器件:

? IGBT、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻:負性膠用于制作較寬的隔離溝槽(寬度>10μm),耐高濃度酸堿蝕刻,降低工藝成本。
武漢油性光刻膠生產(chǎn)廠家半導(dǎo)體光刻膠的分辨率需達到納米級,以滿足7nm以下制程的技術(shù)要求。

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技術(shù)挑戰(zhàn)

光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級制造的材料,其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面


? 高分辨率:隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進,需開發(fā)更高精度的EUV光刻膠,解決光斑擴散、線寬控制等問題。

? 靈敏度與穩(wěn)定性:平衡感光速度和圖案抗蝕能力,適應(yīng)極紫外光(13.5nm)的低能量曝光。

? 國產(chǎn)化替代:目前光刻膠(如EUV、ArF浸沒式)長期被日本、美國企業(yè)壟斷,國內(nèi)正加速研發(fā)突破。

光刻膠的性能直接影響芯片制造的良率和精度,是支撐微電子產(chǎn)業(yè)的“卡脖子”材料之一。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊資本 2000 萬元,擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗,產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等,服務(wù)全球市場并與多家世界 500 強企業(yè)建立長期合作關(guān)系。
作為國家技術(shù)企業(yè),吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動力,擁有多項技術(shù),并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量體系認證。生產(chǎn)過程嚴格遵循 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準,原材料均采用美、德、日等國進口的材料,確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠。公司配備全自動化生產(chǎn)設(shè)備,具備行業(yè)大型的規(guī)模化生產(chǎn)能力,致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提供商”。
其明星產(chǎn)品包括:適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300,具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能;3 微米負性光刻膠 SU-3,適用于厚膜工藝;耐高溫達 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000,可滿足高精度微納加工需求。所有產(chǎn)品均符合要求,部分型號通過歐盟 ROHS 認證。
無銦光刻膠(金屬氧化物基)是下一代EUV光刻膠的研發(fā)方向之一。

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 差異化競爭策略
高級市場(如ArF浸沒式光刻膠),吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新,通過優(yōu)化現(xiàn)有配方(如提高酸擴散抑制效率)逐步縮小與國際巨頭的差距;在中低端市場(如PCB光刻膠),則憑借性價比優(yōu)勢(價格較進口產(chǎn)品低20%-30%)快速搶占份額,2023年P(guān)CB光刻膠市占率突破10%。

 前沿技術(shù)儲備
公司設(shè)立納米材料研發(fā)中心,重點攻關(guān)分子玻璃光刻膠和金屬有機框架(MOF)光刻膠,目標(biāo)在5年內(nèi)實現(xiàn)EUV光刻膠的實驗室級突破。此外,其納米壓印光刻膠已應(yīng)用于3D NAND存儲芯片的孔陣列加工,分辨率達10nm,為國產(chǎn)存儲廠商提供了替代方案。
PCB光刻膠用于線路板圖形轉(zhuǎn)移,需耐受蝕刻液的化學(xué)腐蝕作用。無錫光刻膠廠家

光刻膠的線邊緣粗糙度(LER)是影響芯片性能的關(guān)鍵因素之一。云南厚膜光刻膠價格

LCD 正性光刻膠(YK-200)應(yīng)用場景:LCD 面板的電極圖案化(如 TFT-LCD 的柵極、源漏極)、彩色濾光片制造。特點:高感光度與均勻涂布性,確保顯示面板的高對比度和色彩還原度。
厚膜光刻膠(JT-3001)應(yīng)用場景:Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù),以及 OLED 面板的封裝工藝。特點:膜厚可控(可達數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列的精細加工需求。
PCB 光刻膠(如 SU-3 負性光刻膠)應(yīng)用場景:高多層 PCB、HDI(高密度互連)板的線路成像,以及 IC 載板的精細線路制作。特點:抗電鍍性能優(yōu)異,支持細至 50μm 以下的線寬 / 線距,適應(yīng) 5G 通信、服務(wù)器等 PCB 需求。 云南厚膜光刻膠價格

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