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維度光電自研光斑分析儀測量

來源: 發(fā)布時間:2025-04-22

維度光電作為全球激光測量領(lǐng)域解決商,致力于打造 "三橫三縱" 產(chǎn)品矩陣: 橫向覆蓋: 光譜范圍:190-2700nm 全波段 光斑尺寸:0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級:1μW-10W 全功率 縱向深度: 工業(yè)級:支持產(chǎn)線在線監(jiān)測與自動化對接 醫(yī)療級:符合 ISO 13485 認(rèn)證,保障臨床精度 科研級:開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢: 同時提供雙技術(shù)方案的廠商(狹縫式 + 相機(jī)式) AI 算法庫支持光束質(zhì)量預(yù)測性維護(hù) 模塊化設(shè)計實(shí)現(xiàn)設(shè)備功能動態(tài)擴(kuò)展 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測量與分析。無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。維度光電自研光斑分析儀測量

光斑分析儀

Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺,通過模塊化設(shè)計實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量全參數(shù)檢測。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列,可實(shí)時測繪光斑能量分布,同步計算發(fā)散角及 M2 因子等指標(biāo)。針對光束整形、聚焦優(yōu)化等場景,系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板,支持 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)輸出。可選配的 M2 測試模塊通過滑軌式掃描技術(shù),實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的三維重建,終由 AI 算法自動生成包含能量集中度、橢圓率等 20 + 參數(shù)的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件。 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。光束質(zhì)量光斑分析儀費(fèi)用是多少光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測量模塊;

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光斑分析儀通過光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號,結(jié)合算法分析實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量評估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線:掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描,實(shí)現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量;相機(jī)式則利用面陣傳感器實(shí)時成像,支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標(biāo)配 M2 因子測試模塊,結(jié)合 BeamHere 軟件,可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù),并生成符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作,可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評估模塊,可對聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進(jìn)行量化檢驗(yàn)。用戶可根據(jù)需求擴(kuò)展 M2 測試功能,實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進(jìn)行智能處理,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。光束發(fā)散角測量原理是什么?

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Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個型號,覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時顯示與分析。其優(yōu)勢如下: 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,支持 2D 光斑實(shí)時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下,可實(shí)時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計簡化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計,光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。光束質(zhì)量M2怎么測量?激光聚焦直徑光斑分析儀有哪些型號

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使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號處理 采集到的模擬信號經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角:通過不同位置光斑尺寸計算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長校準(zhǔn)模塊(400-1700nm),每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn),確保測量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測量數(shù)據(jù)自動加密存儲于本地數(shù)據(jù)庫,支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。維度光電自研光斑分析儀測量

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